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  • 高真空等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相薄膜沉積系統(tǒng)

    產(chǎn)品概述:高真空等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相薄膜沉積系統(tǒng)主要由真空反應(yīng)室、上蓋組件、熱絲架、基片加熱臺(tái)、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、安裝機(jī)臺(tái)、真空測(cè)量及電控系統(tǒng)等部分組成。設(shè)備...
    型號(hào): 線列式PECVD 所在地:沈陽(yáng)市 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2024/9/6 15:34:17 對(duì)比
  • 高真空等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相薄膜沉積系統(tǒng)

    高真空等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相薄膜沉積系統(tǒng)主要由3個(gè)真空沉積室(分別沉積P、I、N結(jié))、1個(gè)進(jìn)樣室、1個(gè)中央傳輸室、平板式電極、基片加熱臺(tái)、工作氣路、傳送機(jī)械手、抽...
    型號(hào): Cluster P... 所在地:沈陽(yáng)市 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2024/9/6 15:32:51 對(duì)比
  • 高真空電子束蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)

    高真空電子束蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)主要由蒸發(fā)室、主抽過渡管路、旋轉(zhuǎn)基片架、光加熱系統(tǒng)、電子槍及電源、石英晶體振蕩膜厚監(jiān)控儀、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、安裝機(jī)臺(tái)等部...
    型號(hào): EB700 所在地:沈陽(yáng)市 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2024/9/6 15:25:25 對(duì)比
  • 分子束外延薄膜沉積系統(tǒng)MBE

    分子束外延薄膜沉積系統(tǒng)MBE 是在超高真空系統(tǒng)中把所需要的結(jié)晶材料放入到噴射爐中,將噴射爐加熱。使結(jié)晶材料形成分子束,從爐中噴出后,沉積在高溫的單晶基片上。如果...
    型號(hào): customize... 所在地:深圳市 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2024/9/6 14:31:10 對(duì)比
  • 高真空電子束蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)

    高真空電子束蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)主要由蒸發(fā)室、主抽過渡管路、旋轉(zhuǎn)基片架、光加熱系統(tǒng)、電子槍及電源、石英晶體振蕩膜厚監(jiān)控儀、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、安裝機(jī)臺(tái)等部...
    型號(hào): EB900 所在地:沈陽(yáng)市 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2024/9/6 10:10:28 對(duì)比
  • 蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)

    產(chǎn)品概述:蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)主要由有機(jī)/金屬源蒸發(fā)沉積室、真空排氣系統(tǒng);真空測(cè)量系統(tǒng);蒸發(fā)源;電控系統(tǒng);配氣系統(tǒng)等部分組成。設(shè)備用途:熱蒸發(fā)是指把待鍍膜的基片或工...
    型號(hào): SMART 所在地:沈陽(yáng)市 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2024/9/5 16:10:16 對(duì)比
  • 高真空熱阻蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)

    高真空熱阻蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)主要由有機(jī)/金屬源蒸發(fā)沉積室、真空排氣系統(tǒng);真空測(cè)量系統(tǒng);蒸發(fā)源;樣品加熱控溫;電控系統(tǒng);配氣系統(tǒng)等部分組成。該系統(tǒng)可與手套箱對(duì)接。熱...
    型號(hào): DZ450 所在地:沈陽(yáng)市 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2024/9/5 15:50:43 對(duì)比
  • 高真空有機(jī)及熱阻蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)

    產(chǎn)品概述:高真空有機(jī)及熱阻蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)主要由有機(jī)/金屬源蒸發(fā)沉積室、真空排氣系統(tǒng);真空測(cè)量系統(tǒng);蒸發(fā)源;樣品加熱控溫;電控系統(tǒng);配氣系統(tǒng)等部分組成。設(shè)備用途...
    型號(hào): DZ350 所在地:沈陽(yáng)市 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2024/9/5 14:33:48 對(duì)比
  • 超高真空激光分子束外延薄膜沉積系統(tǒng)

    產(chǎn)品概述:超高真空激光分子束外延薄膜沉積系統(tǒng)由真空腔室(外延室、進(jìn)樣室)、樣品傳遞機(jī)構(gòu)、樣品架、立式旋轉(zhuǎn)靶臺(tái)、基片加熱臺(tái)、抽氣系統(tǒng)、真空測(cè)量、工作氣路、電控系統(tǒng)...
    型號(hào): LMBE450 所在地:沈陽(yáng)市 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2024/9/5 14:13:08 對(duì)比
  • 高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)

    產(chǎn)品概述:高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)可用于制備光學(xué)薄膜、電學(xué)薄膜、磁性薄膜、硬質(zhì)保護(hù)薄膜和裝飾薄膜等,工藝性能穩(wěn)定、模塊化結(jié)構(gòu),采用行業(yè)的軟件控制系統(tǒng)。設(shè)備用途...
    型號(hào): PVD400 所在地:沈陽(yáng)市 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2024/9/5 14:08:37 對(duì)比
  • 高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)

    高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)可用于制備光學(xué)薄膜、電學(xué)薄膜、磁性薄膜、硬質(zhì)保護(hù)薄膜和裝飾薄膜等,工藝性能穩(wěn)定、模塊化結(jié)構(gòu),采用行業(yè)的軟件控制系統(tǒng)。
    型號(hào): PVD500 所在地:沈陽(yáng)市 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2024/9/5 13:55:32 對(duì)比
  • 磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)

    產(chǎn)品概述:磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)可用于制備光學(xué)薄膜、電學(xué)薄膜、磁性薄膜、硬質(zhì)保護(hù)薄膜和裝飾薄膜等,工藝性能穩(wěn)定、模塊化結(jié)構(gòu),采用行業(yè)的軟件控制系統(tǒng)。設(shè)備用途:用于...
    型號(hào): SMART 所在地:沈陽(yáng)市 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2024/9/5 11:24:56 對(duì)比
  • 磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)

    產(chǎn)品概述:磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)可用于制備光學(xué)薄膜、電學(xué)薄膜、磁性薄膜、硬質(zhì)保護(hù)薄膜和裝飾薄膜等,工藝性能穩(wěn)定、模塊化結(jié)構(gòu),采用行業(yè)的軟件控制系統(tǒng)。設(shè)備用途:用于...
    型號(hào): 線列式 所在地:沈陽(yáng)市 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2024/9/5 11:19:19 對(duì)比
  • 高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)

    產(chǎn)品概述:高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)可用于制備光學(xué)薄膜、電學(xué)薄膜、磁性薄膜、硬質(zhì)保護(hù)薄膜和裝飾薄膜等,工藝性能穩(wěn)定、模塊化結(jié)構(gòu),采用行業(yè)的軟件控制系統(tǒng)。設(shè)備用途...
    型號(hào): TRP450 所在地:沈陽(yáng)市 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2024/9/5 11:03:09 對(duì)比
  • 高真空磁控濺射粉末顆粒表面薄膜沉積系統(tǒng)

    高真空磁控濺射粉末顆粒表面薄膜沉積系統(tǒng)可以在粉末顆粒狀樣品表面鍍制金屬膜、磁性膜、絕緣膜等,采用行業(yè)的軟件控制系統(tǒng)??蓮V泛應(yīng)用于大專院校、科研院所的粉末樣品表面...
    型號(hào): PC450 所在地:沈陽(yáng)市 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2024/9/5 10:23:15 對(duì)比
  • 高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)

    產(chǎn)品概述:高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)可用于制備光學(xué)薄膜、電學(xué)薄膜、磁性薄膜、硬質(zhì)保護(hù)薄膜和裝飾薄膜等,工藝性能穩(wěn)定、模塊化結(jié)構(gòu),采用行業(yè)的軟件控制系統(tǒng)。設(shè)備用途...
    型號(hào): JGP450 所在地:沈陽(yáng)市 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2024/9/5 10:16:29 對(duì)比
  • 高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)

    產(chǎn)品概述:高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)可用于制備光學(xué)薄膜、電學(xué)薄膜、磁性薄膜、硬質(zhì)保護(hù)薄膜和裝飾薄膜等,工藝性能穩(wěn)定、模塊化結(jié)構(gòu),采用行業(yè)的軟件控制系統(tǒng)。設(shè)備用途...
    型號(hào): JGP560 所在地:沈陽(yáng)市 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2024/9/5 10:12:04 對(duì)比
  • 高真空磁控濺射與離子束復(fù)合薄膜沉積系統(tǒng)

    產(chǎn)品概述:高真空磁控濺射與離子束復(fù)合薄膜沉積系統(tǒng)可用于制備光學(xué)薄膜、電學(xué)薄膜、磁性薄膜、硬質(zhì)保護(hù)薄膜和裝飾薄膜等,工藝性能穩(wěn)定、模塊化結(jié)構(gòu),采用可行軟件控制系統(tǒng)...
    型號(hào): FJL560 所在地:沈陽(yáng)市 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2024/9/5 10:05:00 對(duì)比
  • 高真空脈沖激光濺射薄膜沉積系統(tǒng)

    產(chǎn)品概述:高真空脈沖激光濺射薄膜沉積系統(tǒng)主要由濺射真空室、旋轉(zhuǎn)靶臺(tái)、抗氧化基片加熱臺(tái)、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、安裝機(jī)臺(tái)、真空測(cè)量及電控系統(tǒng)等部分組成。設(shè)備用途:用于...
    型號(hào): PLD300 所在地:沈陽(yáng)市 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2024/9/5 9:54:51 對(duì)比
  • 高真空脈沖激光濺射薄膜沉積系統(tǒng)

    產(chǎn)品概述:高真空脈沖激光濺射薄膜沉積系統(tǒng)主要由真空室、旋轉(zhuǎn)靶臺(tái)、基片加熱臺(tái)、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、安裝機(jī)臺(tái)、真空測(cè)量及電控系統(tǒng)等組成。設(shè)備用途:脈沖激光沉積(Pu...
    型號(hào): PLD450 所在地:沈陽(yáng)市 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2024/9/5 9:49:09 對(duì)比

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