深圳市矢量科學儀器有限公司

  • 全自動SCRUBBER清洗機

    全自動SCRUBBER清洗機 簡介:?清洗機可以用于對晶圓表面,背面及晶圓邊緣的清洗,通過創(chuàng)新研發(fā)的二流體噴嘴技術(shù)可將附著在晶圓表面的細微顆粒污染物去除。通過大...
    型號: customize... 所在地:上海市 參考價: 面議 更新時間:2024/9/6 16:07:41 對比
  • 涂膠顯影半自動機臺

    KS-M300半自動機臺可用于單片晶片涂膠、顯影、噴膠、清洗、刻蝕、去膠工藝及掩膜板涂膠、顯影、清洗工藝。適用于小批量生產(chǎn)的工藝試驗和生產(chǎn)線。占地面積小,操作時...
    型號: KS-M300 所在地:沈陽市 參考價: 面議 更新時間:2024/9/6 11:03:22 對比
  • 12寸噴霧式涂膠機

    KS-S300全自動噴霧式涂膠機通過超聲波將光阻霧化為微小顆粒,適用于在大深寬比的圖形表面以高分辨率均勻地涂敷光刻膠,可以有效覆蓋溝槽的側(cè)壁和邊緣,避免溝槽堆積...
    型號: KS-S300-S... 所在地:沈陽市 參考價: 面議 更新時間:2024/9/6 10:55:36 對比
  • 12寸 集束型涂膠顯影機

    KS-C300涂膠顯影機可用于封裝、 MEMS、OLED等領(lǐng)域的涂覆顯影制程,每小時可加工180片晶片,同時產(chǎn)品可兼容不同材質(zhì)的晶片如硅、玻璃片、鍵合片、化合物...
    型號: KS-C300 所在地:沈陽市 參考價: 面議 更新時間:2024/9/6 10:34:55 對比
  • 全自動SCRUBBER清洗機

    清洗機可以用于對晶圓表面,背面及晶圓邊緣的清洗,通過創(chuàng)新研發(fā)的二流體噴嘴技術(shù)可將附著在晶圓表面的細微顆粒污染物去除,實現(xiàn)高效去除。通過大量仿真與工藝試驗相結(jié)合,...
    型號: KS-CF300/... 所在地:沈陽市 參考價: 面議 更新時間:2024/9/6 10:25:43 對比
  • 單片式化學清洗機

    KS-CM300/200 單片式化學清洗機適用于沉積前清洗、蝕刻后清洗、離子注入后清洗、CMP后清洗等多種前段工藝(FEOL)和后段工藝(BEOL)清洗進程,可...
    型號: KS-CM300/... 所在地:沈陽市 參考價: 面議 更新時間:2024/9/6 10:21:11 對比
  • 單片清洗機

    用于晶圓級封裝及OLED中的清洗工藝,配合清洗化學藥液、高壓水清洗、常壓水清洗、兆聲波清洗、二流體水清洗、毛刷和噴灑清洗劑等手段,可有效去除晶圓表面顆粒、有機物...
    型號: KS-S300-S... 所在地:沈陽市 參考價: 面議 更新時間:2024/9/6 10:17:16 對比
  • 去膠機

    適用于半導(dǎo)體及LED芯片制造領(lǐng)域中的光刻膠去除、金屬剝離等工藝制程。
    型號: KS-S150-4... 所在地:沈陽市 參考價: 面議 更新時間:2024/9/5 17:16:52 對比
  • 單片濕法去膠機

    用于先進封裝工藝過程中的晶圓去膠制程和金屬剝離制程。設(shè)備可搭載槽式浸泡單元、高壓噴淋或二流體噴淋去膠單元、清洗及干燥單元等工藝模塊,滿足各種品牌型號、各種厚度的...
    型號: KS-S300-S... 所在地:沈陽市 參考價: 面議 更新時間:2024/9/5 16:23:21 對比
  • 去膠機

    用于封裝領(lǐng)域中的光阻去除工藝,掩膜版清洗,OLED 領(lǐng)域中的光阻去除及蒸鍍后金屬剝離等工藝及化合物半導(dǎo)體領(lǐng)域中的光阻去除及蒸鍍后金屬剝離等工藝
    型號: KS-S150-6... 所在地:沈陽市 參考價: 面議 更新時間:2024/9/5 16:17:27 對比
  • 單片濕法刻蝕機

    滿足半導(dǎo)體制造中濕法刻蝕工藝,單片加工,適用于SiO2,SiN,Polysilicon和各種金屬層的刻蝕,清洗等工藝流程。
    型號: KS-S300-E 所在地:沈陽市 參考價: 面議 更新時間:2024/9/5 14:50:24 對比
  • 星型全自動涂膠顯影機

    KS-S150星型全自動涂膠顯影機用于LED-PSS工藝的涂膠顯影制程及化合物半導(dǎo)體的涂膠顯影等制程??杉嫒菟{寶石、砷化鎵和碳化硅等材質(zhì)的晶圓,產(chǎn)品涉及多個應(yīng)用...
    型號: KS-S150 所在地:深圳市 參考價: 面議 更新時間:2024/9/4 17:31:57 對比
  • 涂膠顯影機

    KS-FT200/300系列堆疊式高產(chǎn)能前道涂膠顯影機,為我司自主研發(fā)的突破晶圓前道28nm工藝節(jié)點及以上工藝制程,適用于ArF、KrF、I-Line、PI、B...
    型號: KS-FT200/... 所在地:深圳市 參考價: 面議 更新時間:2024/9/4 15:41:33 對比

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