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| 參 考 價: | 面議 |
產(chǎn)品型號Orion Proxima
品牌北方華創(chuàng)
廠商性質(zhì)經(jīng)銷商
所在地北京市
更新時間：2024-09-05 15:43:59瀏覽次數(shù)：296次
聯(lián)系我時，請告知來自 化工儀器網(wǎng)1. 產(chǎn)品概述
Orion Proxima 高密度等離子體化學氣相沉積系統(tǒng)。
2. 設(shè)備用途/原理
Orion Proxima 高密度等離子體化學氣相沉積系統(tǒng)，填孔能力以及高沉積速率，溫度場和 ICP 電磁場設(shè)計保證了低溫高致密的膜質(zhì)表現(xiàn)，優(yōu)化機臺結(jié)構(gòu)，縮小占地面積，友好的人機交互和安全性設(shè)計保障系統(tǒng)穩(wěn)定、安全、高效。
3. 設(shè)備特點
晶圓尺寸 12 英寸，適用材料氧化硅。適用工藝淺溝槽隔離、金屬間介質(zhì)層、鈍化層。適用域 新興應用、集成電路。等離子體化學氣相沉積(plasmachemical vapor deposition)是指用等離子體激活反應氣體，促進在基體表面或近表面空間進行化學反應，生成固態(tài)膜的技術(shù)。按產(chǎn)生等離子體的方法，分為射頻等離子體、直流等離子體和微波等離子體CVD等。
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