1、公司介紹
深圳市矢量科學儀器有限公司成立于 2020年，由武漢大學團隊孵化，致力泛半導體實驗線、中試線、生產線裝備及工藝和廠務技術服務于一體的國家高新技術企業(yè)、創(chuàng)新型中小企業(yè)、科技型中小企業(yè)。
公司主要業(yè)務如下:
裝備銷售:半導體道制程工藝裝備、后道封裝裝備、半導體分析測試裝備、半導體光電測試儀表。
設備服務:駐場或者 oncall，裝備維護、保養(yǎng)、售后技術支持。
廠務服務:駐場或者 oncall，人力服務及廠務二次配工程。
經歷五年高速發(fā)展，2023 年營業(yè)額達 3.2 億，連年復合增長率達 300%，現(xiàn)處于穩(wěn)定擴張期。
2、成長歷程
•2020年（公司成立年）
•2300萬訂單額
2021年 7000萬訂單額
2022年 2.5億訂單額
2023年3.2億訂單額
ICP-RIE等離子體蝕刻設備 RIE-230iPC
量產設備
概要
RIE-230iPC是以電感耦合等離子體為放電方式，高速進行各種材料的超精細加工的盒式ICP蝕刻系統(tǒng)。該系統(tǒng)通過采用龍卷風式線圈電，高效地產生穩(wěn)定的高密度等離子體，實現(xiàn)了對硅、各種金屬薄膜和化合物半導體的高精度各向異性蝕刻。此外，?230mm的托盤可同時處理多種化合物半導體。
主要特點和優(yōu)點
龍卷風線圈電
它能有效地產生穩(wěn)定的高密度等離子體，使蝕刻具有高選擇性、高精度和良好的均勻性。
低損傷工藝
通過ICP產生高密度的等離子體，實現(xiàn)了低偏置、低損傷的工藝。
溫度控制
電調和He冷卻的平臺和反應室內側壁的溫度控制使蝕刻在穩(wěn)定的條件下進行
應用
GaN、GaAs、InP等化合物半導體的高精度加工。
鐵電材料和電材料的加工。
化工儀器網