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當前位置：深圳市矢量科學儀器有限公司>>半導(dǎo)體前道工藝設(shè)備>>5 刻蝕設(shè)備>> RIE-200CRIE等離子刻蝕設(shè)備
| 參 考 價: | 面議 |
產(chǎn)品型號RIE-200C
品牌SAMCO
廠商性質(zhì)經(jīng)銷商
所在地國外
更新時間：2024-09-06 15:14:14瀏覽次數(shù)：278次
聯(lián)系我時，請告知來自 化工儀器網(wǎng)1. 產(chǎn)品概述
RIE-200C是在擁有豐富交貨業(yè)績的CCP RIE系統(tǒng) "RIE-10NR "的基礎(chǔ)上開發(fā)的量產(chǎn)型盒式裝載系統(tǒng)。該系統(tǒng)可對Si、Poly-Si、SiO?、SiN等各種硅薄膜進行高精度蝕刻和灰化。采用雙盒雙臂機械手，PLC控制全自動操作，高性能存儲工藝參數(shù)，實現(xiàn)了高產(chǎn)量。
2. 設(shè)備用途/原理
Si、Poly-Si、SiO?、SiN等各種硅薄膜的高精度蝕刻。光阻劑的灰化、剝離、除塵，清除有機污染物。
3. 設(shè)備特點
大氣高速傳輸系統(tǒng)，該系統(tǒng)配備了一個大氣盒室和一個大氣傳輸機器人，而不是通常的裝載鎖定室。它可以處理大?8 "晶圓的自動加工，并且可以安裝在兩個盒式箱中。全自動操作，通過觸摸屏可實現(xiàn)全自動操作，通過PLC控制可實現(xiàn)過程管理和數(shù)據(jù)記錄。
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