1 產品概述：

    化合物半導體沉積系統(tǒng)是一類專門用于制備化合物半導體材料的設備，這些材料通常由兩種或多種元素組成，如GaAs、GaN和SiC等。這些材料因其高功率、高頻率等特性，在信息通信、光電應用以及新能源汽車等產業(yè)中占據(jù)重要地位。

2 設備用途：

化合物半導體沉積系統(tǒng)的主要用途包括：

1. 晶圓制備：通過外延生長技術，在襯底上沉積高質量的化合物半導體薄膜，用于制造高性能的半導體器件。

2. 芯片設計與制造：支持化合物半導體器件的設計與制造過程，包括射頻功率放大器、高壓開關器件等。

3. 光電器件：用于制造太陽電池、半導體照明、激光器和探測器等光電器件。

4. 微波射頻：在移動通信、導航設備、雷達電子對抗以及空間通信等系統(tǒng)中，化合物半導體沉積系統(tǒng)用于制造射頻功率放大器等核心組件。

3. 設備特點

化合物半導體沉積系統(tǒng)通常具備以下特點：

1. 高精度與均勻性：

     沉積均勻性：能夠實現(xiàn)晶圓級的高沉積均勻性，確保薄膜厚度和質量的一致性。

     精確控制：通過調節(jié)沉積參數(shù)，如溫度、壓力、氣體流量等，可以精確控制薄膜的化學成分、形貌、晶體結構和晶粒度。

2. 多功能性：

     多種沉積方法：支持化學氣相沉積（CVD）、物理氣相沉積（PVD）等多種沉積方法，滿足不同材料和器件的制備需求。

     多種薄膜材料：能夠沉積金屬薄膜、非金屬薄膜、多組分合金薄膜以及陶瓷或化合物層等多種薄膜材料。

3. 高溫與低溫兼容性：

     高溫沉積：部分設備能夠在高溫下工作，確保薄膜的結晶質量和純度。

     低溫輔助：采用等離子或激光輔助技術，可以降低沉積溫度，保護基體材料不受高溫損傷。

4. 高效與自動化：

     高吞吐量：通過優(yōu)化設計和自動化控制，提高生產效率，降低生產成本。

     自動裝載與卸載：部分設備配備自動衛(wèi)星裝載系統(tǒng)，實現(xiàn)樣品的自動裝載與卸載，提高操作便捷性。

4  設備參數(shù)：
用于在 150/200 mm 襯底（Si/Sapphire/SiC）上進行高級 GaN 應用

• 間歇式反應器的成本優(yōu)勢與單晶圓反應器軸對稱晶圓上均勻性相結合，在以下方面：

o    Wafer Bow （威化弓）

o    層厚、材料成分、摻雜劑濃度

o    組件產量

• 暖吊頂通過晶圓提供熱通量

o    由于垂直溫度梯度最小，晶圓曲率最小

o    允許使用標準厚度的硅晶片

• 通過客戶特定的襯底腔設計優(yōu)化晶圓溫度

配置

• 8x150 毫米

• 5x200 毫米