深圳市矢量科學儀器有限公司

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單片濕法刻蝕機

參  考  價:面議
具體成交價以合同協(xié)議為準

產品型號KS-S300-E

品牌芯源

廠商性質經銷商

所在地沈陽市

更新時間：2024-09-05 14:50:24瀏覽次數(shù)：238次

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滿足半導體制造中濕法刻蝕工藝，單片加工，適用于SiO2，SiN，Polysilicon和各種金屬層的刻蝕，清洗等工藝流程。

1. 產品概述

滿足半導體制造中濕法刻蝕工藝，單片加工，適用于SiO2，SiN，Polysilicon和各種金屬層的刻蝕，清洗等工藝流程。                    

2. 產品優(yōu)勢

利用位置、速度可控的擺臂噴灑化學液，可以有效的提高刻蝕均勻性
分層式反應腔體設計，可以在同一腔體中噴灑多種化學液，并能有效回收，節(jié)約化學液
疊層控制，占地面積小，多可配置4個刻蝕單元

3. 應用域：

半導體制造中濕法刻蝕工藝
封裝域中金屬層刻蝕，滿足UBM及RDL工藝要求
OLED 域中金屬及金屬氧化物（ITO/IGZO）刻蝕、緩沖層成膜的表面（SiO2）刻蝕清洗等工藝

滿足半導體制造中濕法刻蝕工藝，單片加工，適用于SiO2，SiN，Polysilicon和各種金屬層的刻蝕，清洗等工藝流程。 





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