1. 產(chǎn)品概述
Ganister™ A離子束沉積設(shè)備，是針對(duì)低溫、高致密、高均勻性薄膜沉積工藝所開(kāi)發(fā)的專(zhuān)用產(chǎn)品，在硬盤(pán)磁頭、硬磁偏置層、布拉格反射鏡等器件的制備中有著重要的應(yīng)用。該設(shè)備采用濺射成膜，靶材選擇范圍廣。而其采用的四槽旋轉(zhuǎn)靶材基座，更可處理多達(dá)四種靶材。選配的輔助離子源，可以實(shí)現(xiàn)原位預(yù)清洗、優(yōu)化膜層致密性等功能。此外，Ganister™ A的輔助離子源也可進(jìn)行離子束刻蝕，一個(gè)腔室內(nèi)兼?zhèn)鋬煞N工藝，顯著提高了該設(shè)備的功能。
2. 系統(tǒng)特性
在低溫、超低壓工藝模式下，形成高致密優(yōu)質(zhì)膜層
雙離子源結(jié)構(gòu)（濺射+輔助離子源），輔助源用于清洗與輔助濺射
可高精度控制沉積過(guò)程，并能保障批次間的膜層重復(fù)性
實(shí)時(shí)光控設(shè)備，用來(lái)監(jiān)控、分析、調(diào)整膜層光譜
選配：可在一個(gè)腔室內(nèi)同時(shí)實(shí)現(xiàn)IBD和離子束刻蝕（IBE）功能
適用于8英寸晶圓
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