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Beneq C2R--空間原子層沉積ALD

參  考  價:面議
具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)

產(chǎn)品型號

品牌Beneq

廠商性質(zhì)經(jīng)銷商

所在地芬蘭

更新時間：2024-09-05 14:56:52瀏覽次數(shù)：204次

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價格區(qū)間 面議 應(yīng)用領(lǐng)域 能源,電子,電氣,綜合
Beneq C2R 將等離子體增強原子層沉積 （PEALD） 工藝提升到一個全新的水平 – PEALD 可用于大批量生產(chǎn)。由于采用等離子體增強旋轉(zhuǎn)原子層沉積工藝，Beneq C2R 是厚原子層沉積膜的理想選擇，甚至可達幾微米。

1.產(chǎn)品概述：

Beneq C2R 將等離子體增強原子層沉積 （PEALD） 工藝提升到一個全新的水平 – PEALD 可用于大批量生產(chǎn)。由于采用等離子體增強旋轉(zhuǎn)原子層沉積工藝，Beneq C2R 是厚原子層沉積膜的理想選擇，甚至可達幾微米。

2.產(chǎn)品配置:

Beneq C2R 具有基于 Brooks Automation 值得信賴的 MX400 傳輸模塊的自動化選項。

自動化服務(wù)包括：

Brooks MX400 基于集群的模塊

雙臂掃地機器人            

樣品對準(zhǔn)器                     

可選預(yù)熱和冷卻

3.產(chǎn)品優(yōu)勢：

超高沉積速率，高達每小時幾微米

批量 PEALD 工藝，適用于多達 7 個 200 mm 晶圓

適用于厚度達 30 mm 的鏡頭和其他 3D 基板

膜厚均勻性高，適用于要求苛刻的光學(xué)鍍膜應(yīng)用

可配備負載鎖或晶圓自動化

部件鍍膜設(shè)備

部件鍍膜設(shè)備實現(xiàn)高大量生產(chǎn)率的高真空基礎(chǔ)In-line Sputter

薄膜沉積鍍膜系統(tǒng)

薄膜沉積鍍膜系統(tǒng)Automotive Lamp Reflector是為

原子層沉積ALD

Kurt J. Lesker Company （KJLC） ALD15

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