深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司

當(dāng)前位置:深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司>>半導(dǎo)體前道工藝設(shè)備>>5 刻蝕設(shè)備>> PlasmaPro 800 RIE反應(yīng)性離子刻蝕系統(tǒng)RIE

反應(yīng)性離子刻蝕系統(tǒng)RIE

參  考  價(jià):面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

產(chǎn)品型號(hào)PlasmaPro 800 RIE

品牌OXFORD/英國(guó)牛津

廠商性質(zhì)經(jīng)銷商

所在地英國(guó)

更新時(shí)間:2024-09-04 16:29:58瀏覽次數(shù):281次

聯(lián)系我時(shí),請(qǐng)告知來(lái)自 化工儀器網(wǎng)
PlasmaPro 800系列是結(jié)構(gòu)緊湊、且使用方便的直開式系統(tǒng),該系統(tǒng)為大批量晶圓和300mm晶圓上的反應(yīng)離子蝕刻(RIE)工藝提供了靈活的解決方案。大尺寸的晶圓平臺(tái)能夠處理量產(chǎn)級(jí)別的批量以及300mm晶圓的工藝。

1.產(chǎn)品概述:

 asmaPro 800系列是結(jié)構(gòu)緊湊、且使用方便的直開式系統(tǒng),該系統(tǒng)為大批量晶圓和300mm晶圓上的反應(yīng)離子蝕刻(RIE)工藝提供了靈活的解決方案。大尺寸的晶圓平臺(tái)能夠處理量產(chǎn)別的批量以及300mm晶圓的工藝。

2.產(chǎn)品特點(diǎn)

PlasmaPro 800系列是結(jié)構(gòu)緊湊、且使用方便的直開式系統(tǒng),該系統(tǒng)為大批量晶圓和300mm晶圓上的反應(yīng)離子蝕刻(RIE)工藝提供了靈活的解決方案。大尺寸的晶圓平臺(tái)能夠處理量產(chǎn)別的批量以及300mm晶圓的工藝。PlasmaPro 800系列是結(jié)構(gòu)緊湊、且使用方便的直開式系統(tǒng),該系統(tǒng)為大批量晶圓和300mm晶圓上的反應(yīng)離子蝕刻(RIE)工藝提供了靈活的解決方案。大尺寸的晶圓平臺(tái)能夠處理量產(chǎn)別的批量以及300mm晶圓的工藝。

3.產(chǎn)品工藝

高性能工藝

準(zhǔn)確的襯底溫度控制

準(zhǔn)確的工藝控制

成熟的300mm單晶圓失效分析工藝

大型下電 - 低成本

刻蝕終點(diǎn)監(jiān)測(cè) - 可靠性和可維護(hù)性俱佳

通過(guò)激光干涉儀與/或發(fā)射光譜進(jìn)行終點(diǎn)監(jiān)測(cè) - 增強(qiáng)刻蝕控制

可選擇帶有4-、8-或12-條氣路的氣柜 - 可提供靈活的工藝和工藝氣體,可以與主機(jī)分離,放置在遠(yuǎn)端服務(wù)區(qū)

近距離耦合渦輪泵 - 提供優(yōu)秀的泵送速度加快氣體的流動(dòng)速度

數(shù)據(jù)記錄 - 追溯腔室的歷史狀態(tài)以及工藝條件

液體冷卻和/或電加熱電 - 出色的電溫度控制和穩(wěn)定性

深硅刻蝕機(jī)

深硅刻蝕機(jī)PSE V300主要用于12英寸深硅刻蝕,同時(shí)兼具Bosch

深硅刻蝕機(jī)

深硅刻蝕機(jī)HSE P300主要用于12英寸硅刻蝕。采用Cluster結(jié)

等離子刻蝕集群系統(tǒng)

SENTECH 集群系統(tǒng)包括等離子體蝕刻和/或沉積模塊、一個(gè)轉(zhuǎn)移室和一

會(huì)員登錄

×

請(qǐng)輸入賬號(hào)

請(qǐng)輸入密碼

=

請(qǐng)輸驗(yàn)證碼

收藏該商鋪

X
該信息已收藏!
標(biāo)簽:
保存成功

(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)

常用:

提示

X
您的留言已提交成功!我們將在第一時(shí)間回復(fù)您~

以上信息由企業(yè)自行提供,信息內(nèi)容的真實(shí)性、準(zhǔn)確性和合法性由相關(guān)企業(yè)負(fù)責(zé),化工儀器網(wǎng)對(duì)此不承擔(dān)任何保證責(zé)任。

溫馨提示:為規(guī)避購(gòu)買風(fēng)險(xiǎn),建議您在購(gòu)買產(chǎn)品前務(wù)必確認(rèn)供應(yīng)商資質(zhì)及產(chǎn)品質(zhì)量。

撥打電話
在線留言