1.產品概述：

Beneq P400A 為以優(yōu)化的批量大小涂覆不同類型的基材而設計 - 足夠大以提供顯著的容量，但又足夠小以在批次和較短的循環(huán)時間內保持出色的均勻性。我們的客戶將 P400A 用于光學鍍膜和在玻璃或金屬板上使用 ALD 的應用。

2.產品配置:

Beneq P400A 通常用于直徑范圍為 20 毫米至 300 毫米的基板批次。批量設置可針對特定零件、片材、晶圓或其他基板進行優(yōu)化。

扁平基板的總批量大小可達 8米

設計和設置

讓我們選擇和設計佳的工具設置和原子層沉積工藝，以適應您的基材和應用。

P400A 的多功能設計使其易于在反應室和底物支架的不同設置之間切換。這意味著您可以使用相同的原子層沉積系統(tǒng)從研發(fā)順利過渡到批量生產。Beneq 提供量身定制的應用開發(fā)以及試生產支持，因此您可以在建立自己的 ALD 制造能力之進行測試。

厚膜疊層

用于厚膜堆疊 （> 1 μm） 的理想 ALD 工具。 大批量的厚膜堆疊需要大量的驅體，同時會產生大量的殘留物和副產品。為了應對這些挑戰(zhàn)，P400A 配備了高容量驅體源以及驅體滅活和過濾系統(tǒng)。

Beneq P400A 是 35+ 年工業(yè)生產發(fā)展的結果，擁有大批量 >1μm 厚膜堆疊，。

3.產品優(yōu)勢：

Beneq P400A 的溫度范圍從室溫到 550°C，可輕松處理氣體、液體和固體驅體，包括有毒、自燃和腐蝕性驅體材料。

維護更簡單、頻率更低。 沉積厚膜堆疊的原子層沉積工具通常需要每月清潔一次。P400A 的高容量泵管路過濾器使該工具即使在大批量生產中也能運行數(shù)月而無需維護。

由于需要冷卻 ALD 反應室，更換 ALD 反應室可能需要一整天的時間，但 P400A 將時間縮短到幾分鐘。它的設計使操作員只需拉出反應室和其他需要清潔的部件。

避免因維護而造成不必要的停機時間。Beneq P400A 使用多個反應室，這些反應室在每次運行之間連續(xù)切換。這使您可以大限度地減少與維護相關的生產停機時間。

Beneq 有的預熱器。我們可選的預熱烤箱可縮短加熱時間，進一步提高您的吞吐量。