深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司

Laurell的WS-1000系列濕法勻膠工作臺(tái)的配置和測(cè)試模塊建造和運(yùn)輸安裝時(shí)間短。易于裝載和操作,所有物品都讓操作員方便地觸及。

1. 尺寸

48英寸(寬)x433/8英寸(深)x741/4英寸(高)(121.9厘米(寬)x110.04厘米(深)x188.60厘米(高)

2. 典型工藝

蝕刻

顯影—水性/溶劑

清潔—水性/溶劑

硫酸/過(guò)氧化物(原位混合)

HBr

溫控顯影

漂洗/烘干

3. 特征

全聚丙烯結(jié)構(gòu)(可提供自熄功能)                          

適合安裝任何Laurell旋轉(zhuǎn)處理器

穿孔濕甲板(易于拆卸)

濕式增壓室

帶儀表的排氣增壓室

下方為加熱器、泵、容器的隔離組件/抽屜......

4. 選項(xiàng)

觸摸屏控制界面

觀看LaurellTouch演示視頻

處理器排氣聯(lián)鎖(EDC™型號(hào)標(biāo)配)         

化學(xué)加熱

通過(guò)壓力容器物料攪拌(磁性)

沖洗至電阻率

排水分流器

真空裝載棒

晶圓盒支架

泄漏檢測(cè)

燈塔

如有需要,可提供高材料                        

5. 阻燃選項(xiàng)

WS-1000-CP7-D—聚丙烯配方其阻燃特性符合嚴(yán)格的FMRC4910測(cè)試標(biāo)準(zhǔn)對(duì)于大多數(shù)方面的阻燃性、自熄性和燒穿特性。這種先進(jìn)的材料還達(dá)到或超過(guò)了低煙霧產(chǎn)生和小有毒副產(chǎn)物的測(cè)試標(biāo)準(zhǔn)。


有掩膜光刻機(jī)

1.手動(dòng)、半自動(dòng)、全自動(dòng)有掩膜光刻機(jī)$r$n2.高分辨率掩模對(duì)準(zhǔn)光刻,

無(wú)掩膜/激光直寫(xiě)光刻機(jī)

無(wú)掩膜/激光直寫(xiě)光刻機(jī) 參數(shù):1. 光源:375 nm、385 nm、

電子束光刻系統(tǒng)

電子束光刻系統(tǒng) 技術(shù)參數(shù):$r$n1.最小線寬≤8nm 光柵周期

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