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賽默飛電子顯微鏡

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FEI場發(fā)射掃描電子顯微鏡結(jié)合了靜電和磁浸沒技術(shù),可產(chǎn)生高分辨率和材料對(duì)比度

閱讀:191      發(fā)布時(shí)間:2024-1-3
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場發(fā)射掃描電子顯微鏡是一種高分辨率、高性能的電子顯微鏡,具有超高分辨率和強(qiáng)大的圖像處理能力。它利用場發(fā)射電子槍產(chǎn)生電子束,通過電子束在樣品表面掃描,收集并處理二次電子信號(hào),以獲取樣品表面的顯微圖像。

Apreo場發(fā)射掃描電子顯微鏡是研究納米顆粒、催化劑、粉末和納米器件的平臺(tái),而不會(huì)降低磁性樣品性能。傳統(tǒng)的高分辨率 SEM 透鏡技術(shù)分為兩類:磁浸沒或靜電。FEI 將兩種技術(shù)結(jié)合到一個(gè)儀器中。這樣做所產(chǎn)生的成效遠(yuǎn)遠(yuǎn)超過任一種鏡筒的個(gè)體性能。兩種技術(shù)均使電子束形成細(xì)小探針,以提高低電壓下的分辨率,并使信號(hào)電子進(jìn)入鏡筒。通過將磁透鏡和靜電透鏡組合成一個(gè)復(fù)合透鏡,不但提高了分辨率,還增加了*的信號(hào)過濾選項(xiàng)。靜電-磁復(fù)合末級(jí)透鏡在 1 kV 電壓下的分辨率為 1.0 nm(無電子束減速或單色器)。
 
Apreo 擁有透鏡內(nèi)背散射探測器 T1,其位置緊靠樣品以便盡可能多地收集信號(hào),從而確保在很短的時(shí)間內(nèi)采集數(shù)據(jù)。與其他背散射探測器不同,這種快速的探測器始終可保證良好的材料對(duì)比度,在導(dǎo)航時(shí)、傾斜時(shí)或工作距離很短時(shí)也不例外。在敏感樣品上,探測器的價(jià)值凸現(xiàn)出來,即使電流低至幾 pA,它也能提供清晰的背散射圖像。復(fù)合末級(jí)透鏡通過能量過濾實(shí)現(xiàn)更準(zhǔn)確的材料對(duì)比度以及絕緣樣品的無電荷成像,進(jìn)一步延伸了 T1 BSE 探測器的潛在價(jià)值。它還提供了流行選項(xiàng)來補(bǔ)充其探測能力,例如定向背散射探測器(DBS)、STEM 3+ 和低真空氣體分析探測器 (GAD)。所有這些探測器都擁有的軟件控制分割功能,以便根據(jù)需求選擇最有價(jià)值的樣品信息。
 
每個(gè) Apreo 都按標(biāo)準(zhǔn)配備各種用以處理絕緣樣品的策略,包括:高真空技術(shù),例如 SmartSCAN™、漂移補(bǔ)償幀積分(DCFI) 和電荷過濾。對(duì)于最有挑戰(zhàn)性的應(yīng)用,Apreo 可提供電荷緩解策略。其中包括可選的低真空(最高為 500 Pa)策略,通過經(jīng)現(xiàn)場驗(yàn)證的穿鏡式差分抽氣機(jī)構(gòu)和專用低真空探測器,不但可以緩解任何樣品上的電荷,還能提供的分辨率和較大的分析電流。
 
隨著分析技術(shù)的使用越來越常規(guī)化,Apreo 倉室經(jīng)過全新設(shè)計(jì),以便更好地支持不同的配件和實(shí)驗(yàn)。倉室最多容納三個(gè) EDS/WDS 端口,可實(shí)現(xiàn)快速敏感的 X 射線測量、共面EDS/EBSD/TKD 排列并與(冷凍)CL、拉曼、EBIC 和其他技術(shù)兼容。

 

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