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目錄:上海激譜光電有限公司>>衍射光柵>>特殊光柵>> Coherent® LightSmyth™ 納米圖案硅印章

Coherent® LightSmyth™ 納米圖案硅印章
  • Coherent® LightSmyth™ 納米圖案硅印章
參考價(jià) 面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
參考價(jià) 面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 品牌 Edmund Optics
  • 型號(hào)
  • 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷商
  • 所在地 上海市
屬性

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更新時(shí)間:2024-09-26 10:27:25瀏覽次數(shù):411評(píng)價(jià)

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Coherent® LightSmyth™ 納米圖案硅印章
納米級(jí)紋理凹槽表面
可變凹槽周期和凹槽深度
納米光子學(xué)研究應(yīng)用的理想選擇

Coherent® LightSmyth™ 納米圖案硅印章

納米級(jí)紋理凹槽表面

可變凹槽周期和凹槽深度

納米光子學(xué)研究應(yīng)用的理想選擇


通用規(guī)格

涂層:
Uncoated
構(gòu)造 :
RIE Grating
基底:
Single Crystal Silicon
表面質(zhì)量:
60-40 (within CA)
厚度 (mm):
0.68 ±0.05


型號(hào)

產(chǎn)品編碼Period (nm)尺寸 (mm)
16-855855 ±42.7512.50 x 12.50 
16-856855 ±42.7525.00 x 25.00 
16-857139 ±6.9512.50 x 12.50 
16-858139 ±6.9525.00 x 25.00 


詳細(xì)資料

Coherent® LightSmyth™ 納米圖案硅印章由在單晶硅基板上形成圖案的納米級(jí)紋理表面組成。通過(guò)反應(yīng)離子蝕刻,具有梯形橫截面的線性凹槽被蝕刻到基板表面,類似于傳統(tǒng)的光柵。蝕刻工藝可為這些凹槽提供不同的周期和深度規(guī)格,以及更復(fù)雜的圖案,例如晶格。II-VI LightSmyth™ 納米圖案硅印章是光學(xué)和光子學(xué)、生物學(xué)、化學(xué)、納米壓印和微流體領(lǐng)域的納米光子學(xué)研究應(yīng)用的理想選擇。

請(qǐng)注意: II-VI Incorporated 已變更為 Coherent Corp.

技術(shù)數(shù)據(jù)

Coherent® LightSmyth™ 納米圖案硅印章

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