近常壓X射線光電子能譜儀四級差分抽氣系統(tǒng)，一級和二級差分抽氣之間配有閥門，可以實現(xiàn)真空腔體進(jìn)氣時保證分析器的真空度。

MCS-EMP多用途電磁鐵平臺提供了自動化可變磁場實驗所需的所有基本組件，包括兩種尺寸可選（4英寸/7英寸）的電磁體，兩種尺寸可選（2英寸/4英寸）的磁極帽和磁...

來自德國aixACCT公司鐵電分析儀，包括眾多型號及選配件，模塊化設(shè)計的aixACCT 鐵電分析儀具有優(yōu)異的擴展性。德國aixACCT鐵電測試儀可廣泛地應(yīng)用于如...

RTP-100/150快速退火爐為德國優(yōu)尼坦公司生產(chǎn)，分為RTP-100, RTP-150, RSO-200,VPO-300共四個型號，分別對應(yīng)4英寸、6英寸、...

RTP-100/150快速退火爐為德國優(yōu)尼坦公司生產(chǎn)，分為RTP-100, RTP-150, RSO-200,VPO-300共四個型號，分別對應(yīng)4英寸、6英寸、...

回流焊爐簡介：1. 應(yīng)用領(lǐng)域：無助焊劑焊接；倒裝芯片焊接；鍵合；Bump回流焊接；微電子封裝；功率器件焊接；晶圓熱處理；工藝研發(fā)；質(zhì)量控制2. 加熱區(qū)域：4、6...

Novocontrol GmbH是德國一家專業(yè)的電介質(zhì)頻率譜、阻抗譜、溫度譜等電介質(zhì)材料物理量測量儀器的生產(chǎn)廠家，創(chuàng)立于1980年。Novocontrol的介電...

德國SciDre公司推出的高溫高壓光學(xué)浮區(qū)法單晶爐能夠提供2200–3000℃以上的生長溫度，晶體生長腔壓力可達(dá)300bar，甚至10-5mbar的高真空。適用...

產(chǎn)地：法國AnnealSys；型號：AS-One100/AS-One150AS-ONE立式快速退火爐為法國AS公司生產(chǎn)，分為AS-ONE 100, 150, 2...

品牌：Elionix型號：ELS-F125/F100/HS50電子束曝光，電子束直寫，電子束光刻用途：利用電子束在抗蝕劑上書寫納米級圖案，通過ELB設(shè)備曝光和顯...

AE物理氣相沉積平臺Nexdep PVD在經(jīng)濟性和多功能性之間取得了平衡。它可以配備強大的工藝增強功能，而不會占用實驗室的所有空間或預(yù)算。您的研究目標(biāo)、生產(chǎn)需求...

德國YXLON多用途高分辨率CT系統(tǒng)FF35 CT,用于質(zhì)量控制及科研的多用途高分辨率CT系統(tǒng)FF35 CT 計量版：測量的內(nèi)部結(jié)構(gòu)Comet Yxlon FF...

可對應(yīng)低速高濃度的離子注入設(shè)備SOPHI-30低加速、高濃度對應(yīng)的離子注入設(shè)備。

高能對應(yīng)離子注入設(shè)備SOPHI-400可達(dá)2400KeV的高能離子注入設(shè)備。

Veeco 的 GEN200® MBE 系統(tǒng)是當(dāng)今市場上具成本效益和高容量的多片 4 英寸生產(chǎn) MBE 系統(tǒng)。該系統(tǒng)在用于泵浦激光器、VCSEL 和 ...

EIS-200ERP是由ELIONIX研發(fā)的離子束刻蝕機，緊湊和高性能，使用 ECR 離子束可以進(jìn)行納米蝕刻和沉積，制品特微。

EIS-1500是由ELIONIX研發(fā)的108mm的大直徑光束，通過充分利用光束面內(nèi)分布監(jiān)控功能，可以實現(xiàn)各向異性干法蝕刻的離子束刻蝕機

SENTECH SI 591 緊湊型 RIE 等離子蝕刻系統(tǒng)具有負(fù)載鎖定功能，是氯基和氟基 RIE 的緊湊型解決方案。

SENTECH 集群系統(tǒng)包括等離子體蝕刻和/或沉積模塊、一個轉(zhuǎn)移室和一個真空負(fù)載鎖或盒式站。包括搬運機器人在內(nèi)的轉(zhuǎn)移室有三到六個端口。最多可以使用兩個盒式磁帶站...

TFS 500 是薄膜鍍膜應(yīng)用的理想選擇。作為第一個 Beneq 反應(yīng)器模型，已被證明是用于深入研究原子層沉積研究和穩(wěn)健批處理的多功能工具。TFS 500 是多...