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高溫高壓光浮區(qū)單晶爐/日本CSC

參  考  價面議
具體成交價以合同協(xié)議為準

產(chǎn)品型號FZ-T-10000-H

品       牌其他品牌

廠商性質(zhì)代理商

所  在  地上海市

更新時間:2025-06-23 15:04:28瀏覽次數(shù):263次

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高溫高壓光浮區(qū)單晶爐/日本CSC能夠提供2200℃以上的生長溫度,晶體生長腔壓力可達300bar,甚至10-5mbar的高真空。適用于生長各種超導材料單晶,介電和磁性材料單晶,氧化物及金屬間化合物單晶等。

高溫高壓光浮區(qū)單晶爐/日本CSC能夠提供2200℃以上的生長溫度,晶體生長腔壓力可達300bar,甚至10-5mbar的高真空。適用于生長各種超導材料單晶,介電和磁性材料單晶,氧化物及金屬間化合物單晶等。

高溫高壓光浮區(qū)單晶爐/日本CSC技術(shù)參數(shù):

模型fz-t-10000h -八世(vpo)電腦

鹵素燈系統(tǒng)

燈和鏡子的數(shù)量4個

鏡子數(shù)量4片

壓力0.95 MPa

真空6.7×10-3Pa (5×10-5Torr)

(石英管)

常壓φ50mm/365mm長/2mm厚

高壓φ50mm/365mm長/5mm厚

軸密封為o型密封圈

Max溫度2200℃

常溫1850℃

燈功率1200w (300W×4個燈)

4,000W (1,000Wx4盞燈)

6,000W (1,500W×4盞燈)

鏡臺/軸鏡臺與上軸垂直轉(zhuǎn)移

周圍溫差

桿面<30℃

燈具冷卻空氣

鏡面冷卻空氣

Max晶體長度(mm) 150

Max進給長度(mm) 150

生長罕見緩慢移動0.01~300mm/hr

生長速度快移6~150mm/min

軸轉(zhuǎn)速5~100rpm

監(jiān)控CCD攝像頭和LCD

控制系統(tǒng)計算機LabVIEW / Windows 10(帶遠程控制功能)

手動Hand-control-box

①5L/min氬氣流量計(*1)

②500cc/min氧流量計

③10L/min帶壓縮機的空氣流量計

公用事業(yè)電力3相200V,40A

水冷:3~5l/min

尺寸(mm)主體W850×D760×H1950

控制箱W605×D760×H1700

備注:

1. 可選燈功率:150W/500W/750W

2. (*1)可更改其他類型的氣體和流量

3. 質(zhì)量保證:

Crystal Systems Corporation保證自安裝之日起一(1)年內(nèi)有效,但以下情況除外不正常使用。(1)燈(2)鏡子(3)石英管等玻璃器皿不在保修期內(nèi)。

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