上海麥科威半導(dǎo)體技術(shù)有限公司
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薄膜應(yīng)力測(cè)試儀/日本TOHO

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具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

產(chǎn)品型號(hào)FLX-2320-R

品       牌TOHO

廠商性質(zhì)代理商

所  在  地上海市

更新時(shí)間:2025-06-23 16:22:26瀏覽次數(shù):410次

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薄膜應(yīng)力量測(cè)設(shè)備FLX系列設(shè)備是由日本TOHO公司所生產(chǎn)的,廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體行業(yè)薄膜應(yīng)力的量測(cè)。
薄膜應(yīng)力測(cè)試儀/日本TOHO測(cè)試原理:在硅晶圓或者其他材料基地上附著薄膜,由于襯底于薄膜的物理常數(shù)不同,將會(huì)產(chǎn)生應(yīng)力而導(dǎo)致襯底基板形變。由于均勻附著的薄膜引起的形變表現(xiàn)為基板翹曲,因此,可依據(jù)翹曲(曲率半徑)的變化量計(jì)算應(yīng)力。本薄膜應(yīng)力測(cè)量設(shè)備用下述方法測(cè)量附著表面上的薄膜引起的基板曲率半徑變化量。

薄膜應(yīng)力量測(cè)設(shè)備FLX系列設(shè)備是由日本TOHO公司所生產(chǎn)的,廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體行業(yè)薄膜應(yīng)力的量測(cè)。

薄膜應(yīng)力測(cè)試儀/日本TOHO測(cè)試原理:

在硅晶圓或者其他材料基地上附著薄膜,由于襯底于薄膜的物理常數(shù)不同,將會(huì)產(chǎn)生應(yīng)力而導(dǎo)致襯底基板形變。由于均勻附著的薄膜引起的形變表現(xiàn)為基板翹曲,因此,可依據(jù)翹曲(曲率半徑)的變化量計(jì)算應(yīng)力。本薄膜應(yīng)力測(cè)量設(shè)備用下述方法測(cè)量附著表面上的薄膜引起的基板曲率半徑變化量。

設(shè)備特點(diǎn):

(1)雙光源掃描(可見(jiàn)光激光源及不可見(jiàn)光激光源),系統(tǒng)可自動(dòng)選擇匹配之激光源;

(2)系統(tǒng)內(nèi)置升溫、降溫模擬系統(tǒng),便于量測(cè)不同溫度下薄膜的應(yīng)力,溫度調(diào)節(jié)范圍為-65℃至500℃;

(3)自帶常用材料的彈性系數(shù)數(shù)據(jù)庫(kù),并可根據(jù)客戶(hù)需要添加新型材料相關(guān)信息至數(shù)據(jù)庫(kù),便于新材料研究;

(4)形象的軟件分析功能,用于不同測(cè)量記錄之間的比較,且測(cè)量記錄可導(dǎo)出成Excel等格式的文檔;

(5)具有薄膜應(yīng)力3D繪圖功能。

薄膜應(yīng)力測(cè)試儀/日本TOHO主要規(guī)格:

型號(hào):

FLX-2320-S

FLX-2320-R

FLX-3300-T

FLX-3300-R

溫度:

溫度范圍

室溫~50O°C(可選:-65℃~500℃)

室溫

室溫~50O°C(可選:-65℃~500℃)

室溫

升溫速度

~25'C/分鐘  (Max.)

~25'C/分鐘  (Max.)

調(diào)節(jié)功能:

內(nèi)置調(diào)零機(jī)構(gòu)

樣品尺寸:

75-200mm

75-200mm

300mm

300mm

掃描范圍:

200mm

200mm

300mm

300mm

晶圓繪圖:

手動(dòng)

自動(dòng)

手動(dòng)

自動(dòng)

測(cè)量重現(xiàn)性:

1.3MPa

晶圓輸送方式:

手動(dòng)

脫附氣體:

N2或者Ar氣體

(1.5L/分鐘/0.3kg/cm2)

N2或者Ar氣體

(1.5L/分鐘/0.3kg/cm2)

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