CPCP3/plus 粉體等離子清洗機

企業(yè)歷程 :

◆ 2006 年，在美國加州洛杉磯注冊成立賽福國際集團有限公司（CIF International Group Co.,Ltd）。成立之初是一 家面向大學(xué)科研院所銷售儀器設(shè)備的供應(yīng)商。

◆ 2008 年， 自主研發(fā)生產(chǎn)石墨電熱板以來， 先后研發(fā)生產(chǎn)酸蒸逆流清洗器、酸純化器、智能消解儀等理化實驗儀器設(shè)備， 從此走上研發(fā)生產(chǎn)專業(yè)化道路。

◆ 2010 年，掌握了等離子核心技術(shù)，自主研發(fā)生產(chǎn)科研型等離子清洗機系列產(chǎn)品。

◆ 2014 年， 在中國注冊成立華儀行（北京） 科技有限公司， 正式進入中國市場， 部分儀器設(shè)備研發(fā)、制造業(yè)務(wù)移至中國。

◆ 2015 年，自主研發(fā)生產(chǎn)專為處理粉體樣品而設(shè)計轉(zhuǎn)瓶等離子清洗機。

◆ 2017 年，自主研發(fā)生產(chǎn)紫外臭氧清洗機系列產(chǎn)品。

◆ 2018 年，在中國成注冊立賽福儀器承德有限公司，將研發(fā)制造業(yè)務(wù)全部移至中國。

◆ 2019 年，電鏡專用遠程等離子清洗機研發(fā)成功。

◆ 2021 年，自主研發(fā)生產(chǎn)中試、生產(chǎn)型等離子清洗系列產(chǎn)品，完善了等離子產(chǎn)品線。

◆ 2023 年，科研型等離子去膠機、RIE 蝕刻機研發(fā)成功。

公司專注材料表面處理技術(shù)：

◆ 改性（等離子清洗機、紫外臭氧清洗機）                   ◆ 去膠（等離子去膠機）

◆ 蝕刻（等離子刻蝕機）                                              ◆ 涂層（等離子濺射鍍膜機、勻膠機、烤膠機）

企業(yè)愿景：

致力于為全球用戶提供專業(yè)的表面處理整體解決方案。

企業(yè)使命：

CIF與我們的員工、客戶乃至商業(yè)伙伴在內(nèi)的所有人，同呼吸，共命運，共同成長，共同發(fā)展，共同成就夢想！