Trion 等離子蝕刻ICP
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
- 公司名稱 韋氏納米系統(tǒng)（深圳）有限公司
- 品牌
- 型號(hào) Trion
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 代理商
- 更新時(shí)間 2018/8/21 14:16:23
- 訪問(wèn)次數(shù) 1007
產(chǎn)品標(biāo)簽
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Minilock-Phantom III具有預(yù)真空室的反應(yīng)離子刻蝕機(jī)
可適用于單個(gè)基片或帶承片盤的基片(3”- 300mm尺寸)，為實(shí)驗(yàn)室和試制線生產(chǎn)環(huán)境提供*的刻蝕能力。它也具有多尺寸批處理功能(4x3”; 3x4”; 7x2”)。
系統(tǒng)有多達(dá)七種工藝氣體可以用于刻蝕各種薄膜，如氧化硅、氮化硅、多晶硅、鋁、砷化鎵、鉻、銅、磷化銦和鈦。該反應(yīng)室還可以用于去除光刻膠和有機(jī)材料。可選配靜電吸盤(E-chuck)，以便更有效地在刻蝕工藝中讓基片保持冷卻。該E-chuck使用氦壓力控制器，及在基片背面保持一個(gè)氦冷卻層，從而達(dá)到控制基片溫度的作用。
該設(shè)備可選配一個(gè)電感耦合等離子(ICP)源，其使得用戶可以創(chuàng)建高密度等離子，從而提高刻蝕速率和各向異性等刻蝕性能。
基片通過(guò)預(yù)真空室裝入。其避免與工藝室以及任意殘余刻蝕副產(chǎn)品接觸，從而提高了用戶安全性。預(yù)真空室還使得工藝室始終保持在真空下，從而隔絕外部濕氣，防止反應(yīng)室內(nèi)可能發(fā)生的腐蝕。
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