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上海伯東代理霍爾離子源 eH 3000

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

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上海伯東是德國(guó) Pfeiffer  真空設(shè)備, 美國(guó)  KRI 考夫曼離子源, 美國(guó) inTEST 高低溫沖擊測(cè)試機(jī), 美國(guó) Gel-pak 芯片包裝盒, 日本 NS 離子蝕刻機(jī), 比利時(shí) Europlasma 等離子表面處理機(jī) 和美國(guó) Ambrell 感應(yīng)加熱設(shè)備等進(jìn)口品牌代理商 .我們真誠(chéng)期待與您的合作!




質(zhì)譜分析儀,氦質(zhì)譜檢漏儀,分子泵,離子源,真空閥門

供貨周期 一個(gè)月以上

因產(chǎn)品配置不同, 價(jià)格貨期需要電議, 圖片僅供參考, 一切以實(shí)際成交合同為準(zhǔn)

KRI 霍爾離子源 eH 3000

上海伯東代理美國(guó)* KRI 霍爾離子源 eH 3000 適合大型真空系統(tǒng), 與友廠大功率離子源對(duì)比, eH 3000 是目前市場(chǎng)上高效, 提供高離子束流的離子源.
尺寸: 直徑= 9.7“ 高= 6”
放電電壓 / 電流: 50-300V / 20A
操作氣體: Ar, Xe, Kr, O2, N2, 有機(jī)前體

KRI 霍爾離子源 eH 3000 特性
水冷 - 加速冷卻
可拆卸陽極組件 - 易于維護(hù); 維護(hù)時(shí),大限度地減少停機(jī)時(shí)間; 即插即用備用陽極
寬波束高放電電流 - 高電流密度; 均勻的蝕刻率; 刻蝕效率高; 高離子輔助鍍膜 IAD 效率
多用途 - 適用于 Load lock / 超高真空系統(tǒng); 安裝方便
高效的等離子轉(zhuǎn)換和穩(wěn)定的功率控制

KRI 霍爾離子源 eH 3000 技術(shù)參數(shù)

型號(hào)

eH3000 / eH3000L / eH3000M / eH3000LE

供電

DC magnetic confinement

- 電壓

50-250V VDC

- 離子源直徑

~ 7 cm

- 陽極結(jié)構(gòu)

模塊化

電源控制

eHx-25020A

配置

-

- 陰極中和器

Filament, Sidewinder Filament or Hollow Cathode

- 離子束發(fā)散角度

> 45° (hwhm)

- 陽極

標(biāo)準(zhǔn)或 Grooved

- 水冷

前板水冷

- 底座

移動(dòng)或快接法蘭

- 高度

4.0'

- 直徑

5.7'

- 加工材料

金屬
電介質(zhì)
半導(dǎo)體

- 工藝氣體

Ar, Xe, Kr, O2, N2, Organic Precursors

- 安裝距離

16-45”

- 自動(dòng)控制

控制4種氣體

* 可選: 可調(diào)角度的支架;

KRI 霍爾離子源 eH 3000 應(yīng)用領(lǐng)域
濺鍍和蒸發(fā)鍍膜 PC
輔助鍍膜 ( 光學(xué)鍍膜 ) IBAD
表面改性, 激活 SM
直接沉積 DD

若您需要進(jìn)一步的了解詳細(xì)信息, 請(qǐng)聯(lián)絡(luò)上海伯東羅先生

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