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離子污染度測試儀系統(tǒng)

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  武漢賽斯特精密儀器有限公司是武漢市專業(yè)研發(fā),以力學試驗機儀器為主,同時銷售各種、中低端分析儀器?,F(xiàn)有員工60多人,公司成功開發(fā)了PCI放大采集卡和中文版試驗軟件,并采用全數字化,操作簡捷,*符合GB、ISO、JIS、ASTM、DIN等標準、國家標準、行業(yè)標準的要求,公司亦通過了ISO9001質量體系認證和國家計量體系認證,榮獲了“武漢市第九界消費者滿意單位”的稱號。
  產品廣泛應用于電子、高校、政府研究機構、環(huán)保機構、石油化工、紡織制造、第三方檢測機構、*別研究院、新能源、集成電路、芯片、封裝測試、半導體行業(yè)、顯示器領域、光電材料、鋰電池、機械生產等領域。并與武漢理工大學、華中科技大學等建立了長期合作,每年投入大量研究經費,招攬各方優(yōu)秀的技術人才加盟突破國內技術壁壘,不斷攻克新的技術難題,另外公司還積極拓展海外業(yè)務,產品遠銷越南,印度,埃及等國家和地區(qū)。
  本著“專業(yè)品質,專業(yè)服務”為宗旨,以“科技、品質、競爭、創(chuàng)新”為理念,通過不斷汲取新的技術,新的理念,繼續(xù)開發(fā)研制新產品,并為廣大客戶提供優(yōu)質的售前,售中,售后服務。熱烈歡迎廣大新老朋友業(yè)函,來電,蒞臨我公司參觀指導!


 

實驗室檢測儀器,測試儀器設備等

產地類別 國產 應用領域 醫(yī)療衛(wèi)生,化工,電子

離子污染度測試儀系統(tǒng)

▲總述

本設備為兩室真空系統(tǒng)。其中一室為進樣取樣室,另一室為刻蝕室。進樣取樣室與刻蝕室之間裝有真空鎖,進樣取樣采用機械手運送。

本設備主要由真空系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、電氣系統(tǒng)、控制系統(tǒng),冷卻系統(tǒng)、送取片機構、報警系統(tǒng)等組成。

▲真空系統(tǒng)

本系統(tǒng)由一個抽速600升/秒分子泵+抽速9升/秒真空泵組成抽氣系統(tǒng), 將刻蝕室抽至高真空, 分子泵與刻蝕室之間裝有壓力調節(jié)閥電插板閥, 機械泵為刻蝕室予抽泵及分子泵前級泵。用另一個抽速9升/秒機械泵將進取樣室抽至真空狀態(tài)。 機械泵與真空室之間及與分子泵之間均采用不銹鋼波紋管連接, 并裝有電磁氣動隔斷閥。

▲恒壓控制系統(tǒng)

本設備配有下游恒壓控制系統(tǒng),在抽氣管路裝有一電動可調節(jié)閥,通過薄膜規(guī)測量(進口件),可調節(jié)閥控制,使真空室達到恒壓,從而提高工藝穩(wěn)定性。

▲射頻電源系統(tǒng)

采用射頻電源兩套,帶自動動匹配。

▲氣路系統(tǒng)

由4個質量流量控制器控制4路氣體進氣。氣體管路均采用1/4英寸不銹鋼硬管,管路接頭連接形式采用雙卡套連接。質量流量控制器采用美國技術,氣路閥門、管路等采用進口件。

▲控制系統(tǒng)

采用工控機及PLC控制,通過觸摸屏設置參數及顯示測量值、狀態(tài)等,實現(xiàn)真空系統(tǒng)及工藝過程自動化。本機可選擇全自動及非全自動模式。

▲報警系統(tǒng):設備所需安全要求。

二. 主要技術指標

  1. 極限真空:  刻蝕室9.0×10-5 Pa (室內濕度≤55%)

               進樣取樣室6.0×10-1 Pa

2. 刻蝕材料:  Poly-Si、Si、SiO2、Si3N4、深刻硅等

3. 刻蝕速率:   0.01~ 2μ/min

4. 刻蝕均勻性: ≤±5%(φ125mm范圍內);

5. 電極尺寸: φ200mm

三.設備基本配置

1. 真空泵源:  抽速600升/秒分子泵一臺

抽速9升/秒機械泵二臺

2. 射頻功率源: RF 500W射頻電源及自動匹配器一套

RF 1000W射頻電源及自動匹配器一套

3. 氣路系統(tǒng):   4臺質量流量計控制四路進氣(七星華創(chuàng))

              (管件閥門:進口)

4. 真空測量:  復合真空計一臺

5.恒壓系統(tǒng): 薄膜規(guī)一個(進口)

可調節(jié)閥一套

6. 自動控制系統(tǒng)一套(含工控機,PLC控制器,17〞觸摸顯示屏、    驅動電路等)

離子污染度測試儀系統(tǒng)

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