離子污染測定儀

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▲總述

本設備為兩室真空系統(tǒng)。其中一室為進樣取樣室，另一室為刻蝕室。進樣取樣室與刻蝕室之間裝有真空鎖，進樣取樣采用機械手運送。

本設備主要由真空系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、電氣系統(tǒng)、控制系統(tǒng)，冷卻系統(tǒng)、送取片機構、報警系統(tǒng)等組成。

▲真空系統(tǒng)

本系統(tǒng)由一個抽速600升/秒分子泵+抽速9升/秒真空泵組成抽氣系統(tǒng), 將刻蝕室抽至高真空, 分子泵與刻蝕室之間裝有壓力調節(jié)閥電插板閥, 機械泵為刻蝕室予抽泵及分子泵前級泵。用另一個抽速9升/秒機械泵將進取樣室抽至真空狀態(tài)。 機械泵與真空室之間及與分子泵之間均采用不銹鋼波紋管連接, 并裝有電磁氣動隔斷閥。

▲恒壓控制系統(tǒng)

本設備配有下游恒壓控制系統(tǒng)，在抽氣管路裝有一電動可調節(jié)閥，通過薄膜規(guī)測量（進口件），可調節(jié)閥控制，使真空室達到恒壓,從而提高工藝穩(wěn)定性。

▲射頻電源系統(tǒng)

采用射頻電源兩套，帶自動動匹配。

▲氣路系統(tǒng)

由4個質量流量控制器控制4路氣體進氣。氣體管路均采用1/4英寸不銹鋼硬管，管路接頭連接形式采用雙卡套連接。質量流量控制器采用美國技術,氣路閥門、管路等采用進口件。

▲控制系統(tǒng)

采用工控機及PLC控制，通過觸摸屏設置參數及顯示測量值、狀態(tài)等，實現真空系統(tǒng)及工藝過程自動化。本機可選擇全自動及非全自動模式。

▲報警系統(tǒng)：設備所需安全要求。

二. 主要技術指標

  1. 極限真空:  刻蝕室9.0×10^-5 Pa (室內濕度≤55%)

               進樣取樣室6.0×10^-1 Pa

2. 刻蝕材料:  Poly-Si、Si、SiO₂、Si₃N_4、深刻硅等

3. 刻蝕速率:   0.01~ 2μ/min

4. 刻蝕均勻性: ≤±5％(φ125mm范圍內)；

5. 電極尺寸: φ200mm

三．設備基本配置

1. 真空泵源:  抽速600升/秒分子泵一臺

抽速9升/秒機械泵二臺

2. 射頻功率源: RF 500W射頻電源及自動匹配器一套

RF 1000W射頻電源及自動匹配器一套

3. 氣路系統(tǒng):   4臺質量流量計控制四路進氣（七星華創(chuàng)）

              (管件閥門：進口)

4. 真空測量：  復合真空計一臺

5．恒壓系統(tǒng)： 薄膜規(guī)一個(進口)

可調節(jié)閥一套

6. 自動控制系統(tǒng)一套（含工控機，PLC控制器，17〞觸摸顯示屏、    驅動電路等）

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