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化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>半導體行業(yè)專用儀器>濕法工藝設(shè)備>濕法清洗設(shè)備>customized 全自動SCRUBBER清洗機

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customized 全自動SCRUBBER清洗機

具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 公司名稱 深圳市矢量科學儀器有限公司
  • 品牌 芯源
  • 型號 customized
  • 產(chǎn)地 中國
  • 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷商
  • 更新時間 2024/9/6 16:07:41
  • 訪問次數(shù) 1437

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深圳市矢量科學儀器有限公司是集半導體儀器裝備代理及技術(shù)服務(wù)的高新技術(shù)企業(yè)。

致力于提供半導體前道制程工藝裝備、后道封裝裝備、半導體分析測試設(shè)備、半導體光電測試儀表及相關(guān)儀器裝備維護、保養(yǎng)、售后技術(shù)支持及實驗室整體服務(wù)。

公司目前已授實用新型權(quán)利 29 項,軟件著作權(quán) 14 項,是創(chuàng)新型中小企業(yè)、科技型中小企業(yè)、規(guī)模以上工業(yè)企業(yè)。








冷熱臺,快速退火爐,光刻機,納米壓印、磁控濺射,電子束蒸發(fā)

1. 產(chǎn)品概述:

芯源微的全自動 Scrubber 清洗機主要用于對晶圓表面、背面及晶圓邊緣的清洗。通過創(chuàng)新研發(fā)的二流體噴嘴技術(shù),可將附著在晶圓表面的細微顆粒污染物高效去除;對于微米級別大顆粒,采用特殊材料的毛刷或高壓噴淋進行擦洗去除。配合尺寸不同的晶圓翻轉(zhuǎn)裝置和夾持式承片臺,可在同一臺設(shè)備中實現(xiàn)對晶圓的正反兩面進行清洗。

2. 設(shè)備應用

該清洗機可廣泛應用于半導體芯片制造過程中的清洗環(huán)節(jié),例如在集成電路制造的前道晶圓加工以及后道先進封裝過程中,用于去除晶圓表面的各種污染物,確保芯片的質(zhì)量和性能。具體應用的廠商包括中芯國際、上海華力、廈門士蘭集科、廣州粵芯、上海積塔等廠商。

3. 設(shè)備特點

· 高效清洗能力:通過創(chuàng)新的二流體噴嘴技術(shù)和特殊的清洗方式,能夠有效去除晶圓表面不同類型和大小的顆粒污染物,提高清洗效率和質(zhì)量。

· 工藝參數(shù)優(yōu)化:經(jīng)過大量仿真與工藝試驗相結(jié)合,優(yōu)化出優(yōu)等的清洗工藝參數(shù),在確保清洗效果的同時,不損傷晶圓表面的圖形。

· 晶圓雙面清洗:借助晶圓翻轉(zhuǎn)裝置和夾持式承片臺,可實現(xiàn)對晶圓正反兩面的清洗,提高了清洗的全面性,滿足半導體制造過程中對晶圓表面高質(zhì)量清洗的要求。

· 高產(chǎn)能:具備較高的產(chǎn)能,能夠滿足大規(guī)模生產(chǎn)的需求,有助于提高生產(chǎn)效率。

· 打破國外壟斷:該設(shè)備各項指標達到較高水平,成功實現(xiàn)進口替代,為國內(nèi)半導體產(chǎn)業(yè)提供了具有競爭力的清洗解決方案。

 

4. 產(chǎn)品參數(shù)

· 清洗腔室尺寸:決定了可容納晶圓的大小和數(shù)量。

· 噴嘴參數(shù):如二流體噴嘴的類型、噴射壓力、流量等,影響清洗效果和效率。

· 毛刷或高壓噴淋參數(shù):對于采用毛刷或高壓噴淋清洗大顆粒的方式,相關(guān)參數(shù)包括毛刷的材質(zhì)、尺寸、轉(zhuǎn)速,以及高壓噴淋的壓力等。

· 晶圓翻轉(zhuǎn)裝置參數(shù):例如翻轉(zhuǎn)的速度、角度控制精度等,確保晶圓在清洗過程中能夠準確、穩(wěn)定地進行翻面操作。

· 承片臺參數(shù):如承片臺的尺寸、夾持力、平整度等,保證晶圓在清洗過程中的穩(wěn)定放置和精確移動。

· 工藝時間參數(shù):包括不同清洗步驟的時間設(shè)置,如預清洗時間、主清洗時間、沖洗時間等,以實現(xiàn)優(yōu)化的清洗工藝。

· 氣體供應參數(shù):如果清洗過程中涉及特定氣體的使用,如氮氣等,相關(guān)參數(shù)包括氣體的流量、壓力等。

· 實際參數(shù)可能會因設(shè)備的具體配置和定制需求而有所不同。




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