一、產(chǎn)品概述：

CIF臭氧中和器系統(tǒng)是一款用于半導體制造和其他工業(yè)應用中的優(yōu)良設備，專門設計用于去除工藝過程中產(chǎn)生的臭氧。該系統(tǒng)利用化學反應將臭氧轉(zhuǎn)化為無害的氧氣，從而有效降低環(huán)境中的臭氧濃度，確保操作安全和環(huán)境合規(guī)。CIF臭氧中和器具有高效的反應速率和穩(wěn)定的性能，能夠在各種工藝條件下持續(xù)運行。憑借其緊湊的設計和易于集成的特點，CIF臭氧中和器系統(tǒng)廣泛應用于清洗、刻蝕和薄膜沉積等半導體制造環(huán)節(jié)，幫助提高生產(chǎn)效率并保護設備和人員安全。

二、設備用途/原理：

·設備用途

CIF臭氧中和器系統(tǒng)主要用于半導體制造、化學處理和其他工業(yè)領域，專門用于去除工藝過程中產(chǎn)生的臭氧。它廣泛應用于清洗、刻蝕和薄膜沉積等環(huán)節(jié)，以確保操作環(huán)境的安全性和合規(guī)性，保護設備和人員免受臭氧的危害。

·工作原理

該系統(tǒng)通過化學反應將臭氧轉(zhuǎn)化為無害的氧氣。首先，臭氧氣體被引入中和器，隨后通過催化劑或化學反應介質(zhì)與臭氧發(fā)生反應。該反應將臭氧分解為氧氣，顯著降低其濃度。CIF臭氧中和器設計緊湊，能夠在各種工藝條件下高效運行，確保臭氧濃度保持在安全水平。該系統(tǒng)的高效性和穩(wěn)定性使其成為現(xiàn)代工業(yè)中的重要設備。

三、主要技術指標：

1.臭氧分解催化劑分解效率大于99%。

2.隔膜泵抽氣效率：10L/min。

3. 電源：220V/50/60Hz/20W。

4. 整機尺寸：280(W)×168(D)×180 (H) mm。

四、產(chǎn)品特點

1.采用無毒，不燃燒、活性高、壽命長的納米金屬氧化物的臭氧分解催化劑，能在室溫狀態(tài)下將高濃度的臭氧快速分解為氧氣。

2. 采用大流量、高負壓、低噪音無刷隔膜泵加速臭氧流動，使得臭氧分解。

3. HEPA高效過濾器應用，有效保護隔膜泵不被催化劑損