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PN型測試儀

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公司成立于2021年,是一家注冊在蘇州、具備技術(shù)的非接觸式半導(dǎo)體檢測分析設(shè)備制造商。公司集研發(fā)、設(shè)計、制造、銷售于一體,主要攻克國外壟斷技術(shù),替代進口產(chǎn)品,使半導(dǎo)體材料測試設(shè)備國產(chǎn)化。

主要產(chǎn)品:非接觸式無損方塊電阻測試儀、晶圓方阻測試儀、方阻測試儀、硅片電阻率測試儀、渦流法高低電阻率分析儀、晶錠電阻率分析儀、渦流法電阻率探頭和PN探頭測試儀、遷移率(霍爾)測試儀、少子壽命測試儀,晶圓、硅片厚度測試儀、表面光電壓儀JPV\SPV、汞CV、ECV。碳化硅、硅片、氮化鎵、襯底和外延廠商提供測試和解決方案。

憑借*的技術(shù)和豐富的產(chǎn)品設(shè)計經(jīng)驗,申請各項知識產(chǎn)權(quán)20余項,已發(fā)展成為中國大陸少數(shù)具有一定國際競爭力的半導(dǎo)體專用設(shè)備提供商,產(chǎn)品得到眾多國內(nèi)外主流半導(dǎo)體廠商的認可,并取得良好的市場口碑。





晶圓電阻率測試儀,硅片電阻率測試儀,渦流法低電阻率分析儀,晶錠電阻率分析儀,遷移率測試儀,少子壽命測試儀

價格區(qū)間 10萬-30萬 應(yīng)用領(lǐng)域 電子

PN型測試儀特點:

導(dǎo)電性:n型硅片具有良好的電子導(dǎo)電性。它的導(dǎo)電性主要來源于額外添加的五價元素如磷或砷,這些元素會提供自由電子,使得n型硅片帶負電荷。相反,p型硅片則通過摻入三價元素如硼或鋁,形成空穴。空穴在這種材料中具有正電荷,從而導(dǎo)致p型硅片呈現(xiàn)出正電導(dǎo)特性。

雜質(zhì)摻入:n型和p型硅片的區(qū)別還在于摻雜的雜質(zhì)類型和濃度。n型硅片通常通過在硅晶體中引入少量的五價元素來形成,以增加自由電子數(shù)量。這些雜質(zhì)被稱為施主雜質(zhì)。相反,p型硅片需要引入三價元素作為受主雜質(zhì),以捕獲并增加電子空穴。

工作原理:n型和p型硅片的不同導(dǎo)致了半導(dǎo)體器件的工作原理差異。當(dāng)n型和p型硅片通過特定方式連接時,形成了一個結(jié)構(gòu)稱為PN結(jié)。PN結(jié)具有整流特性,即只允許電流在一個方向上通過。這種特性使得硅片可以用于制造二極管、晶體管和其他各種半導(dǎo)體器件。

應(yīng)用領(lǐng)域:n型和p型硅片在不同的應(yīng)用領(lǐng)域發(fā)揮著重要作用。n型硅片通常用于制造電子器件如晶體管和集成電路,而p型硅片則廣泛應(yīng)用于太陽能電池板等光電器件的制造。

硅片厚度也是影響生產(chǎn)力的一個因素,因為它關(guān)系到每個硅塊所生產(chǎn)出的硅片數(shù)量。超薄的硅片給線鋸技術(shù)提出了額外的挑戰(zhàn),因為其生產(chǎn)過程要困難得多。除了硅片的機械脆性以外,如果線鋸工藝沒有精密控制,細微的裂紋和彎曲都會對產(chǎn)品良率產(chǎn)生負面影響。超薄硅片線鋸系統(tǒng)必須可以對工藝線性、切割線速度和壓力、以及切割冷卻液進行精密控制。

PN型測試儀技術(shù)參數(shù):

重量

35kg

尺寸

460mm(長)×505mm(寬)×205mm(高)

接口

以太網(wǎng)口×1,DB9×1

電源線接口×1,腳踏開關(guān)×1

開關(guān)按鈕×1,氣源口×1

硅片要求

方片:125mm×125mm,156mm×156mm

圓片(寸):4”,5”,6”,8”,12”

硅片厚度范圍:50μm~1000μm

硅片電阻率范圍:0.1?·cm~20?·cm(電阻率范圍可定制)(厚度約180μm)

數(shù)據(jù)指標(biāo)

單點及多點厚度

誤差≤±3.00μm

重復(fù)性≤±0.5μm

電阻率

誤差≤±2%

重復(fù)性≤0.5%

環(huán)境要求

溫度

22℃~25℃

濕度

35%~60%RH





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