化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>半導(dǎo)體行業(yè)專用儀器>光刻及涂膠顯影設(shè)備>有掩模光刻機(jī)>URE-2000/17/25/35/34AL 紫外光刻機(jī)
URE-2000/17/25/35/34AL 紫外光刻機(jī)
- 公司名稱 北京中科復(fù)華科技有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號 URE-2000/17/25/35/34AL
- 產(chǎn)地 成都
- 廠商性質(zhì) 代理商
- 更新時間 2024/4/7 10:06:04
- 訪問次數(shù) 147
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納米圖形發(fā)生器，離子束刻蝕/反應(yīng)離子刻蝕/感應(yīng)耦合等離子刻蝕 磁控濺射/氣相沉積/電子束蒸發(fā)鍍膜、ALD/MBE/MOCVD 光刻機(jī)、去膠設(shè)備等
1． 技術(shù)參數(shù)
l UV光源：進(jìn)口LED模塊
l 曝光中心波長：365nm
l 光源平行性：2o
l ★曝光分辨率：0.8um-1um
l 曝光能量密度：>35mW/cm2可調(diào)
l 照度不均勻性：≤2.5%(∮150mm范圍)
l ★曝光面積：160mm*160mm
l 光源壽命：2萬小時
l 曝光設(shè)定：定時
l 曝光頭工作模式：曝光位對準(zhǔn)位自動切換（前后移動）
l 套準(zhǔn)精度：±0.8-1 um
l 可執(zhí)行曝光模式：真空接觸、硬接觸、壓力接觸、接近式，
l 間隙設(shè)定方式：數(shù)字設(shè)定曝光間隙，自動分離和消除間隙
l 樣片、掩模版相對移動范圍：X: ±5mm， Y: ±5mm， θ=±6o
l 掩模版找平方式：球氣浮自動找平
l 可支持掩模版尺寸： 3″×3″、4″×4″、5″×5″、7″×7″ 各一件
l 標(biāo)配承片臺 ： 2英寸、3英寸、4英寸、6英寸
l 標(biāo)準(zhǔn)配件可兼容樣片厚度：0.1-6mm，其他尺寸可定制
l 可設(shè)計(jì)工作厚度：50mm
l ★雙目雙視場對準(zhǔn)顯微鏡或者光學(xué)鏡頭+CCD+顯示器：可通過目鏡目視對準(zhǔn)，也可通過CCD+顯示器對準(zhǔn)，光學(xué)合像，光學(xué)倍數(shù)400倍，光學(xué)+電子放大800倍，物鏡三對：4倍、10倍、20倍，目鏡三對：10倍、16倍、20倍
l 雙物鏡可調(diào)距離范圍：30mm-120mm
l ★顯微掃描范圍：Y:±40mm（電動，數(shù)字設(shè)定）
設(shè)備尺寸：≤700mm
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