ABM/6/350/NUV/DCCD/SA 紫外光刻機(jī)

截止到2008年1月，ABM公司在世界范圍售出了500多臺(tái)光刻機(jī)，50多臺(tái)單獨(dú)曝光系統(tǒng)。客戶包括美國(guó)NSA和INTEL、哈佛大學(xué)、LG、菲利普、惠普、3M等，ABM在中國(guó)各地也擁有不同領(lǐng)域的客戶，包括眾多的工廠、大學(xué)和研究所等。

主要配置：

6“，8”光源系統(tǒng)
可支持2“，3”，4“，6”，8“（圓/方片）及碎片光刻
手動(dòng)系統(tǒng)，半自動(dòng)系統(tǒng)
支持電源350-2000 Watt
支持深紫外近紫外波長(zhǎng)（可選項(xiàng)）
 支持背后對(duì)準(zhǔn)及MEMS工藝要求
 CCD或顯微鏡對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)


主要性能指標(biāo)：
 光強(qiáng)均勻性Beam Uniformity:：
--<±1% over 2” 區(qū)域
--<±2% over 4” 區(qū)域
    --<±3% over 6” 區(qū)域
 接觸式樣曝光特征尺寸CD(近紫外NUV）：0.5 um
 接觸式樣曝光特征尺寸CD（深紫外DUV）：0.35 um
 支持接近式曝光，特征尺寸CD：
--0.8um 硬接觸
--1um 20um 間距時(shí)
--2um 50um 間距時(shí)
 正面對(duì)準(zhǔn)精度 ± 0.5um
 背面對(duì)準(zhǔn)精度±1um--±2um（Depends on user）
 支持正膠、負(fù)膠及Su8膠等的厚膠光刻，特征尺寸：100um-300um
 支持LED優(yōu)異電流控制技術(shù)PSS工藝光刻
 支持真空、接近式、接觸式曝光
 支持恒定光強(qiáng)或恒定功率模式