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化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>半導體行業(yè)專用儀器>光刻及涂膠顯影設(shè)備>無掩模光刻機/直寫光刻機>DWL 2000 GS / DWL 4000 GS 激光光刻機

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DWL 2000 GS / DWL 4000 GS 激光光刻機

具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 公司名稱 深圳市矢量科學儀器有限公司
  • 品牌 STELLA/海德堡儀器
  • 型號 DWL 2000 GS / DWL 4000 GS
  • 產(chǎn)地
  • 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷商
  • 更新時間 2024/8/12 10:10:05
  • 訪問次數(shù) 310
產(chǎn)品標簽

灰度光刻

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深圳市矢量科學儀器有限公司是集半導體儀器裝備代理及技術(shù)服務的高新技術(shù)企業(yè)。

致力于提供半導體前道制程工藝裝備、后道封裝裝備、半導體分析測試設(shè)備、半導體光電測試儀表及相關(guān)儀器裝備維護、保養(yǎng)、售后技術(shù)支持及實驗室整體服務。

公司目前已授實用新型權(quán)利 29 項,軟件著作權(quán) 14 項,是創(chuàng)新型中小企業(yè)、科技型中小企業(yè)、規(guī)模以上工業(yè)企業(yè)。

 

 

 

 

 

 

 

 

冷熱臺,快速退火爐,光刻機,納米壓印、磁控濺射,電子束蒸發(fā)

寫入模式第二第三V
寫作性能 - 灰度




覆蓋層 [3σ, nm](超過 8“ x 8”)

300

像素網(wǎng)格灰度 [nm]1002002505001000
寫入速度 DWL 2000 GS [mm2/分鐘]125075270870
寫入速度 DWL 4000 GS [mm2/分鐘]1250752701000
暴露時間 DWL 2000 GS:適用于 200 mm x 200 mm [小時]5113.592.50.8
曝光時間 DWL 4000 GS:適用于 400 mm x 400 mm [小時]2235436103
最大劑量 [mJ/cm2 ]5600140090022550






寫入性能 - 二進制




最小特征尺寸 [μm]0.50.70.812
最小行數(shù)和間距 [μm]0.70.911.53
地址網(wǎng)格 [nm]51012.52550
邊緣粗糙度 [3σ, nm]40506080110
CD均勻度 [3σ, nm]607080130180
注冊 [3σ, nm]200200200200200
寫入速度 [mm2/minute] DWL 2000 GS125075270870
寫入速度 [mm2/minute] DWL 4000 GS1250752701000
系統(tǒng)特點
光源405 nm 的二極管激光器
最大基板尺寸DWL 2000 GS:9 英寸 x 9 英寸 / DWL 4000 GS:17 英寸 x 17 英寸
基板厚度0 至 12 mm
最大曝光面積DWL 2000 GS:200 x 200 平方毫米 / DWL 4000 GS:400 x 400 平方毫米
溫控流量箱溫度穩(wěn)定性 ± 0.1°,ISO 4 環(huán)境
實時自動對焦光學自動對焦或氣壓計自動對焦
自動對焦補償范圍80微米


系統(tǒng)尺寸
光刻單元 (寬度×深度×高度);重量2350 毫米× 1650 毫米× 2100 毫米;3000 千克
電子架 (寬度×深度×高度);重量800 毫米× 600 毫米× 1800 毫米;180 千克


安裝要求
電氣400 VAC ± 5 %, 50/60 赫茲, 16 A
壓縮空氣6 - 10 巴
潔凈室建議使用 ISO 6 或更高






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