UV Litho-ACA 無(wú)掩膜光刻機(jī)

1. 產(chǎn)品概述

ACA無(wú)掩膜光刻機(jī)系列是科研版的無(wú)掩膜版紫外光刻機(jī)，其基于空間光調(diào)制技術(shù)，實(shí)現(xiàn)了數(shù)字掩膜光刻，靈活性使其成為科學(xué)研究。設(shè)備搭載長(zhǎng)壽命、高功率的紫外光源，設(shè)備穩(wěn)定，上手簡(jiǎn)單。其的原位光繪和交互式套刻指引功能，讓光刻和套刻更加容易和精準(zhǔn)。ACA系列設(shè)備為科研工作提供了強(qiáng)大的支持，助力科學(xué)研究域的發(fā)展和創(chuàng)新。

2. 特色參數(shù)

特征尺寸0.8μm

6英寸光刻面積

高精度步進(jìn)光刻

無(wú)掩膜光刻機(jī)

3. 應(yīng)用案例

微流道芯片

二維材料電

光學(xué)掩膜版

MEMS器件

灰度光刻

4. 公司簡(jiǎn)介：

托托科技（蘇州）有限公司是一家注于顯微光學(xué)加工和顯微光學(xué)檢測(cè)域的公司，在基于數(shù)字微鏡器件的無(wú)掩膜光刻技術(shù)域中進(jìn)行了數(shù)年的深入研究和技術(shù)積累，其研制和生產(chǎn)的無(wú)掩膜紫外光刻機(jī)一經(jīng)問(wèn)世，就受到了諸多客戶(hù)的青睞，在科研和工業(yè)域都有廣泛的應(yīng)用。例如，在微納加工域，可以用于制作MEMS器件、微流控芯片、微型傳感器等；在光電子域，可以用于制作光柵、衍射光學(xué)元件等。
  托托科技致力于設(shè)備底層技術(shù)的研究和積累，不斷尋求技術(shù)的突破，努力為客戶(hù)帶來(lái)更好的設(shè)備和更好的使用體驗(yàn)，幫助客戶(hù)創(chuàng)造更高的價(jià)值。