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TSC-150C/200C CMP后清洗機(jī)

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
產(chǎn)品標(biāo)簽

CMP后清洗

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深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司是集半導(dǎo)體儀器裝備代理及技術(shù)服務(wù)的高新技術(shù)企業(yè)。

致力于提供半導(dǎo)體前道制程工藝裝備、后道封裝裝備、半導(dǎo)體分析測(cè)試設(shè)備、半導(dǎo)體光電測(cè)試儀表及相關(guān)儀器裝備維護(hù)、保養(yǎng)、售后技術(shù)支持及實(shí)驗(yàn)室整體服務(wù)。

公司目前已授實(shí)用新型權(quán)利 29 項(xiàng),軟件著作權(quán) 14 項(xiàng),是創(chuàng)新型中小企業(yè)、科技型中小企業(yè)、規(guī)模以上工業(yè)企業(yè)。








冷熱臺(tái),快速退火爐,光刻機(jī),納米壓印、磁控濺射,電子束蒸發(fā)


該系列設(shè)備是碳化硅晶圓拋光后的專用清洗設(shè)備,采用連線式結(jié)構(gòu),設(shè)備加配全自動(dòng)上下片系統(tǒng)。該系列設(shè)備配有漂洗、雙面刷洗、兆聲清洗、N2吹干、高速甩干功能,集成度高,占地面積小,濕進(jìn)干出,適用于碳化硅晶圓拋光后的清洗。

產(chǎn)品特點(diǎn)

全自動(dòng)系統(tǒng)

皮帶傳動(dòng), cassette in/out 干進(jìn)干出

PLC控制系統(tǒng)

觸摸屏操作

清洗工藝

預(yù)清洗/雙面刷洗/藥液噴霧漂洗 /兆聲噴淋/高速甩干/氮?dú)獯蹈?/span>

刷子類型

PVA 刷, 雙面刷洗

性能參數(shù)

規(guī)格/參數(shù)TSC-150CTSC-200C
工藝雙面刷洗雙面刷洗
清洗工位皮帶傳送式6工位皮帶傳送式6工位
上下片全自動(dòng)全自動(dòng)
晶圓尺寸3-6 inch6-8 inch
上料位浸沒(méi)式浸沒(méi)式
漂洗(預(yù)清洗)DIW沖洗DIW沖洗
刷洗工位*22個(gè)PVA刷,雙面刷洗2個(gè)PVA刷,雙面刷洗
PVA刷轉(zhuǎn)速30-400 RPM30-400 RPM
兆聲清洗可選可選
氮?dú)獯蹈?/td>







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