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Haasrode® Avior® A 電容耦合等離子體刻蝕（CCP）設(shè)備

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產(chǎn)品標(biāo)簽

CCP

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深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司是集半導(dǎo)體儀器裝備代理及技術(shù)服務(wù)的高新技術(shù)企業(yè)。

致力于提供半導(dǎo)體前道制程工藝裝備、后道封裝裝備、半導(dǎo)體分析測試設(shè)備、半導(dǎo)體光電測試儀表及相關(guān)儀器裝備維護、保養(yǎng)、售后技術(shù)支持及實驗室整體服務(wù)。

公司目前已授實用新型權(quán)利 29 項，軟件著作權(quán) 14 項，是創(chuàng)新型中小企業(yè)、科技型中小企業(yè)、規(guī)模以上工業(yè)企業(yè)。

 

 

 

 

 

 

 

 

冷熱臺，快速退火爐，光刻機，納米壓印、磁控濺射，電子束蒸發(fā)

電容耦合等離子體刻蝕（CCP）設(shè)備

1. 產(chǎn)品概述：

CCP腔室適用于制造微納結(jié)構(gòu)的等離子刻蝕技術(shù)。在反應(yīng)離子刻蝕過程中，等離子體中會包含大量的活性粒子，與表面原子產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng)，生成可揮發(fā)產(chǎn)物后，隨真空抽氣系統(tǒng)排出。魯汶儀器的 Haasrode® Avior® A 在性價比和空間利用率上優(yōu)點突出，可提供各種不同材料的刻蝕解決方案。

單腔室電容耦合等離子體（CCP）機適用于光刻膠殘膠去除（打底膜）、介質(zhì)刻蝕等工藝可用于6英寸及以下晶圓

2. 系統(tǒng)特性

單腔室電容耦合等離子體（CCP）機臺

適用于光刻膠殘膠去除（打底膜）、介質(zhì)刻蝕等工藝

可用于6英寸及以下晶圓



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