Genesis ALD 原子層沉積ALD

1.市場和應用：

用于電池、太陽能和柔性電子產(chǎn)品的功能性原子層沉積涂層。 Genesis ALD 是涂布任何卷筒格式基材以及多種功能應用的理想選擇。

各種類型鋰離子和固態(tài)電池的陰和陽的鈍化

用于柔性太陽能電池的導電層和封裝

用于柔性電子產(chǎn)品的防潮層

2.材料選擇：

多種 ALD 材料可供選擇，可滿足您的要求。 多年來，Beneq 一直是用于研發(fā)和工業(yè)生產(chǎn)的卷對卷原子層沉積系統(tǒng)的先驅(qū)。我們的常用材料包括 Al?O?、TiO?、ZnO、ZnS、SiO? 或可根據(jù)要求提供的任何其他材料。

3.功能亮點：

卷筒紙寬度：大420mm

ALD鍍膜厚度：大100nm

動態(tài)沉積速率 （Al2O3）： 10 nm *m/min

過程溫度：高 250°C

4.定制：

在大420mm的卷筒紙寬度下，Genesis ALD適用于實驗室研發(fā)或中試規(guī)模生產(chǎn)。 設計用于將 ALD 薄膜處理到聚合物或金屬等柔性基材上。通過與我們的合作伙伴 E+R Group合作，我們?yōu)榭蛻籼峁└鼘挼木硗布埡蜕a(chǎn)線集成的可選設計。