Shale® C 系列 8英寸電感耦合等離子體化學氣相沉積設備

具體成交價以合同協(xié)議為準

產(chǎn)品標簽

ICP

在線交流發(fā)送詢價進入商鋪同類產(chǎn)品

聯(lián)系方式：謝澤雨 查看聯(lián)系方式

聯(lián)系我們時請說明是化工儀器網(wǎng)上看到的信息，謝謝!

公司介紹 主營產(chǎn)品

深圳市矢量科學儀器有限公司是集半導體儀器裝備代理及技術(shù)服務的高新技術(shù)企業(yè)。

致力于提供半導體前道制程工藝裝備、后道封裝裝備、半導體分析測試設備、半導體光電測試儀表及相關(guān)儀器裝備維護、保養(yǎng)、售后技術(shù)支持及實驗室整體服務。

公司目前已授實用新型權(quán)利 29 項，軟件著作權(quán) 14 項，是創(chuàng)新型中小企業(yè)、科技型中小企業(yè)、規(guī)模以上工業(yè)企業(yè)。

展開

冷熱臺，快速退火爐，光刻機，納米壓印、磁控濺射，電子束蒸發(fā)

1. 產(chǎn)品概述

Shale® C系列電感耦合等離子體化學氣相沉積設備（ICP-CVD）是一款先進的薄膜沉積設備，它結(jié)合了電感耦合（ICP）和電容耦合（CCP）技術(shù)，為用戶提供了一種高效、可靠的薄膜沉積解決方案。

該設備通過高密度等離子體的產(chǎn)生，實現(xiàn)了極低的沉積溫度，這不僅能夠保護基材，減少熱損傷，還能確保薄膜的高致密性與優(yōu)異的填充能力。該工藝適用于多種材料的沉積，尤其是在對薄膜質(zhì)量有高要求的應用中表現(xiàn)。

此外，Shale® C系列設備采用了符合國際標準的零部件，這些組件是8英寸產(chǎn)線設備中的常用標準部件，確保了設備的兼容性與可維護性。設備的設計遵循SEMI的嚴格標準，確保其在半導體行業(yè)中的穩(wěn)定運行及高度可靠。

在產(chǎn)品性能方面，Shale® C系列經(jīng)過了一系列嚴格的穩(wěn)定性和可靠性測試，驗證了其在長時間連續(xù)運行下的表現(xiàn)。這使得該設備成為制造過程中的理想選擇，適合用于大規(guī)模生產(chǎn)和研發(fā)實驗。

2. 系統(tǒng)特性

可在低溫（<120°C）下沉積高致密薄膜，其致密性不亞于LPCVD在750°C生長的薄膜

可有效降低等離子體損傷，從而降低漏電，漏電流密度與原子層沉積（ALD）制備的薄膜相當

可提供高深寬比薄膜填充工藝

可選8/6英寸電，適用于不同尺寸的晶圓