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PlasmaPro 800 RIE 反應(yīng)性離子刻蝕系統(tǒng)RIE
- 公司名稱 深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司
- 品牌 OXFORD/英國牛津
- 型號(hào) PlasmaPro 800 RIE
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷商
- 更新時(shí)間 2024/9/4 16:29:58
- 訪問次數(shù) 250
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1.產(chǎn)品概述：
asmaPro 800系列是結(jié)構(gòu)緊湊、且使用方便的直開式系統(tǒng)，該系統(tǒng)為大批量晶圓和300mm晶圓上的反應(yīng)離子蝕刻（RIE）工藝提供了靈活的解決方案。大尺寸的晶圓平臺(tái)能夠處理量產(chǎn)別的批量以及300mm晶圓的工藝。
2.產(chǎn)品特點(diǎn)：
PlasmaPro 800系列是結(jié)構(gòu)緊湊、且使用方便的直開式系統(tǒng)，該系統(tǒng)為大批量晶圓和300mm晶圓上的反應(yīng)離子蝕刻（RIE）工藝提供了靈活的解決方案。大尺寸的晶圓平臺(tái)能夠處理量產(chǎn)別的批量以及300mm晶圓的工藝。PlasmaPro 800系列是結(jié)構(gòu)緊湊、且使用方便的直開式系統(tǒng)，該系統(tǒng)為大批量晶圓和300mm晶圓上的反應(yīng)離子蝕刻（RIE）工藝提供了靈活的解決方案。大尺寸的晶圓平臺(tái)能夠處理量產(chǎn)別的批量以及300mm晶圓的工藝。
3.產(chǎn)品工藝：
高性能工藝
準(zhǔn)確的襯底溫度控制
準(zhǔn)確的工藝控制
成熟的300mm單晶圓失效分析工藝
大型下電 - 低成本
刻蝕終點(diǎn)監(jiān)測 - 可靠性和可維護(hù)性俱佳
通過激光干涉儀與/或發(fā)射光譜進(jìn)行終點(diǎn)監(jiān)測 - 增強(qiáng)刻蝕控制
可選擇帶有4-、8-或12-條氣路的氣柜 - 可提供靈活的工藝和工藝氣體，可以與主機(jī)分離，放置在遠(yuǎn)端服務(wù)區(qū)
近距離耦合渦輪泵 - 提供優(yōu)秀的泵送速度加快氣體的流動(dòng)速度
數(shù)據(jù)記錄 - 追溯腔室的歷史狀態(tài)以及工藝條件
液體冷卻和/或電加熱電 - 出色的電溫度控制和穩(wěn)定性
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