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GNP CLEANER-812L CMP后清洗機(jī)

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

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深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司是集半導(dǎo)體儀器裝備代理及技術(shù)服務(wù)的高新技術(shù)企業(yè)。

致力于提供半導(dǎo)體前道制程工藝裝備、后道封裝裝備、半導(dǎo)體分析測(cè)試設(shè)備、半導(dǎo)體光電測(cè)試儀表及相關(guān)儀器裝備維護(hù)、保養(yǎng)、售后技術(shù)支持及實(shí)驗(yàn)室整體服務(wù)。

公司目前已授實(shí)用新型權(quán)利 29 項(xiàng),軟件著作權(quán) 14 項(xiàng),是創(chuàng)新型中小企業(yè)、科技型中小企業(yè)、規(guī)模以上工業(yè)企業(yè)。








冷熱臺(tái),快速退火爐,光刻機(jī),納米壓印、磁控濺射,電子束蒸發(fā)

1. 產(chǎn)品概述

適用晶圓尺寸:200mm(8")和300mm(12")

配置:獨(dú)立配置4個(gè)清洗工位,DIW刀預(yù)清洗,2個(gè)雙面滾刷清洗,N2吹旋轉(zhuǎn)漂洗干燥(可選分離式QDR)清潔器尺寸:1,970W 975D 1,380Hmm

電刷尺寸:70(外徑)32(內(nèi)徑)320(長(zhǎng))毫米

預(yù)清洗工位:DIW噴霧清洗,工位間DIW帷幕清洗

輥刷工位

化學(xué):nh4oh<1%)或DIW

刷型:雙面PVA

轉(zhuǎn)速:<滿量程的±2%范圍30 ~ 300rpm

化學(xué)品供應(yīng):4個(gè)噴嘴和通過(guò)刷子

可用化學(xué):2化學(xué)[NH4OH]            

化學(xué)品流量:滿量程< 1L/min

DI流量:滿量程<5L/min

轉(zhuǎn)站

旋轉(zhuǎn)速度:2500轉(zhuǎn)/DIW沖洗/ N2

控制工藝:自動(dòng)上片,自動(dòng)順序,濕進(jìn)/干出

程序控制:PC & PC觸摸監(jiān)控,程序可編程,計(jì)算機(jī)網(wǎng)絡(luò)可比




化工儀器網(wǎng)

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