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PVD-1000B系列 生產(chǎn)型磁控濺射及離子輔助復(fù)合鍍膜機(jī)

具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)

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鵬城半導(dǎo)體技術(shù)(深圳)有限公司(簡稱:鵬城半導(dǎo)體),由哈爾濱工業(yè)大學(xué)(深圳)與有多年實(shí)踐經(jīng)驗(yàn)的工程師團(tuán)隊(duì)共同發(fā)起創(chuàng)建。公司立足于技術(shù)前沿與市場前沿的交叉點(diǎn),尋求創(chuàng)新yin/ling與可持續(xù)發(fā)展,解決產(chǎn)業(yè)的痛點(diǎn)和國產(chǎn)化難題,爭取產(chǎn)業(yè)鏈的自主可控。


公司核心業(yè)務(wù)是微納技術(shù)與gao duan精密制造,具體應(yīng)用領(lǐng)域包括半導(dǎo)體材料、半導(dǎo)體工藝和半導(dǎo)體裝備的研發(fā)設(shè)計和生產(chǎn)制造。


公司人才團(tuán)隊(duì)知識結(jié)構(gòu)完整,有以哈工大教授和博士為核心的高水平材料研究和工藝研究團(tuán)隊(duì);還有來自工業(yè)界的高級裝備設(shè)計師團(tuán)隊(duì),他們具有20多年的半導(dǎo)體材料研究、外延技術(shù)研究和半導(dǎo)體薄膜制備成套裝備設(shè)計、生產(chǎn)制造的經(jīng)驗(yàn)。


公司依托于哈爾濱工業(yè)大學(xué)(深圳),具備*的半導(dǎo)體研發(fā)設(shè)備平臺和檢測設(shè)備平臺,可以在高起點(diǎn)開展科研工作。公司總部位于深圳市,具備半導(dǎo)體裝備的研發(fā)、生產(chǎn)、調(diào)試以及半導(dǎo)體材料與器件的中試、生產(chǎn)、銷售的能力。





半導(dǎo)體材料,工藝和裝備的研發(fā)設(shè)計,生產(chǎn)制造

生產(chǎn)型 高真空磁控濺射及離子輔助復(fù)合鍍膜機(jī)(PVD-1000B系列)該設(shè)備采用磁控濺射、離子輔助、反應(yīng)濺射的工藝方法,在工件表面制備各種薄膜材料。該設(shè)備是集成了工件表面處理、離子清洗、顆粒物控制、磁控濺射、離子輔助鍍膜及反應(yīng)濺射鍍膜等工藝方法于一體的PVD設(shè)備。



可以制備單層膜、多層膜、摻雜膜、金屬膜及合金膜、化合物薄膜等。

設(shè)備結(jié)構(gòu)及性能參數(shù)

真空室為圓柱形、上開蓋、前開門結(jié)構(gòu);使用材料均為奧氏體不銹鋼304/321,表面電化學(xué)拋光處理,無微觀毛刺,不會藏污納垢。

磁控濺射靶為矩形,沿真空室壁的圓周排列,可調(diào)整靶面與工件的距離。

樣品架為圓筒形,樣品裝載數(shù)量大;旋轉(zhuǎn)運(yùn)動為齒輪驅(qū)動式,動力直連輸入,經(jīng)齒輪驅(qū)動樣品臺轉(zhuǎn)盤旋轉(zhuǎn),運(yùn)行平穩(wěn),無抖動;密封可靠,故障率低。

加熱系統(tǒng)采用紅外加熱器,對真空環(huán)境無污染,加熱均勻;采用具有PID功能的智能溫控儀控制加熱功率。

電氣控制及操作系統(tǒng)工作穩(wěn)定可靠,操作界面清晰大方,便于操作。

系統(tǒng)安全保護(hù)設(shè)置齊全,設(shè)備啟動后可實(shí)行無人運(yùn)行。

設(shè)備重點(diǎn)性能參數(shù)


極限真空度

8X10-5Pa

工作背景真空度8X10-4Pa
工作背景真空到達(dá)時間<40min(空氣濕度低于45%;開門時間<30min條件下從大氣抽到工作真空度時間)
樣品加熱溫度

室溫~300℃

樣品架公轉(zhuǎn)速度3~10r/min連續(xù)可調(diào)
片內(nèi)膜層均勻性<5%
片間膜層均勻性<5%
磁控靶數(shù)量3靶(可根據(jù)用戶工藝擴(kuò)展靶位)
真空清洗離子靶1靶





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