邁可諾技術(shù)有限公司

主營(yíng)產(chǎn)品: 美國(guó)Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī)

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ma-N 2400、mr-EBLMicro Resist電子束及深紫外光刻膠
Micro Resist電子束及深紫外光刻膠
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  • 型號(hào) ma-N 2400、mr-EBL
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  • 廠(chǎng)商性質(zhì) 代理商
  • 所在地 北京市

更新時(shí)間:2024-05-17 08:12:42瀏覽次數(shù):2773

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【簡(jiǎn)單介紹】
供貨周期 一個(gè)月以上 應(yīng)用領(lǐng)域 電子
德國(guó)Micro Resist公司創(chuàng)立于1993年.公司生產(chǎn)的高性能各種用于微納制作的光刻膠,除了生產(chǎn)用于i、g和h線(xiàn)的光刻膠以外,還有電子束刻蝕膠和納米壓印膠以及專(zhuān)門(mén)用于光學(xué)波導(dǎo)制作的光膠可供選擇。
【詳細(xì)說(shuō)明】

德國(guó)Micro Resist公司創(chuàng)立于1993年.公司生產(chǎn)的高性能各種用于微納制作的光刻膠,除了生產(chǎn)用于i、g和h線(xiàn)的光刻膠以外,還有電子束刻蝕膠和納米壓印膠以及專(zhuān)門(mén)用于光學(xué)波導(dǎo)制作的光膠可供選擇。

ma-N 2400系列   

電子束和深紫外曝光 

電子束和深紫外靈敏;非常適合作為刻蝕掩模,*的抗干刻、濕刻性能;膠圖案良好的熱穩(wěn)定性;優(yōu)異的圖案分辨率-50 nm以下;堿性水溶液下顯影;

mr-EBL 6000

電子束曝光

電子束和深紫外靈敏;非常適合作為刻蝕掩模,*的抗干刻、濕刻性能;光膠圖案良好的熱穩(wěn)定性;優(yōu)異的圖案分辨率-80 nm以下;堿性水溶液下顯;

 



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