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邁可諾技術(shù)有限公司
主營(yíng)產(chǎn)品： 美國(guó)Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī) |
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邁可諾技術(shù)有限公司
主營(yíng)產(chǎn)品： 美國(guó)Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī) |
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| 產(chǎn)品圖片 | 產(chǎn)品名稱 | |||
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EC200-DUO控制器preeflow®雙組份微量點(diǎn)膠機(jī) 簡(jiǎn)單介紹：preeflow®雙組份微量點(diǎn)膠機(jī) 確保了小劑量液體準(zhǔn)確的容積式輸送。 經(jīng)過在流體定量輸送方面20年的經(jīng)驗(yàn)積累 preeflow® 品牌于2008年誕生。依托德國(guó)制造的高質(zhì)量，preeflow®系列產(chǎn)品世界。 小巧、準(zhǔn)確、經(jīng)濟(jì)一直是我們做得更好的動(dòng)力與信心。 產(chǎn)品型號(hào)：EC200-DUO控制器 所在地：北京市 更新時(shí)間：2024-05-17 |
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EC200-K/EC200控制器preeflow®單組份微量點(diǎn)膠機(jī) 簡(jiǎn)單介紹：preeflow®單組份微量點(diǎn)膠機(jī) 確保了小劑量液體準(zhǔn)確的容積式輸送。 經(jīng)過在流體定量輸送方面20年的經(jīng)驗(yàn)積累 preeflow® 品牌于2008年誕生。依托德國(guó)制造的高質(zhì)量，preeflow®系列產(chǎn)品世界。 小巧、準(zhǔn)確、經(jīng)濟(jì)一直是我們做得更好的動(dòng)力與信心。 產(chǎn)品型號(hào)：EC200-K/EC200控制器 所在地：北京市 更新時(shí)間：2024-05-17 |
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高折射率膠粘劑 簡(jiǎn)單介紹：高折射率粘合劑，用于粘合玻璃，塑料和可進(jìn)行UV固化和/或熱固化的金屬。 產(chǎn)品型號(hào)： 所在地：北京市 更新時(shí)間：2024-05-17 |
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低折射率膠粘劑 簡(jiǎn)單介紹：低折射率粘合劑。用于粘接玻璃或塑料的粘度 產(chǎn)品型號(hào)： 所在地：北京市 更新時(shí)間：2024-05-17 |
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諾蘭光學(xué)膠粘劑 簡(jiǎn)單介紹：當(dāng)暴露在紫外線下時(shí)，這些單一的粘合劑將在幾秒鐘內(nèi)固化，并且可以在很寬的光譜范圍內(nèi)提供出色的透光率。我們的光學(xué)膠設(shè)計(jì)用于在軍事，航空，光纖或商業(yè)光學(xué)中要求低應(yīng)變，光學(xué)清晰度或低除氣的情況下粘合。 產(chǎn)品型號(hào)： 所在地：北京市 更新時(shí)間：2024-05-17 |
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CM3030膠體金試紙切條機(jī) 簡(jiǎn)單介紹：膠體金試紙切條機(jī)適合膠體金試條的切割，也可加裝定位傳感器切血糖條等。 性能特點(diǎn)：切條機(jī)是快速診斷試劑的專業(yè)生產(chǎn)設(shè)備之一，應(yīng)用于生產(chǎn)過程中把片材材料快速切割成寬度試劑條，設(shè)備經(jīng)過國(guó)內(nèi)大型生產(chǎn)廠家使用驗(yàn)證和用于批量生產(chǎn)，實(shí)用、穩(wěn)定、可靠； 產(chǎn)品型號(hào)：CM3030 所在地：北京市 更新時(shí)間：2024-05-17 |
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血脂試紙非接觸式裁切機(jī) 簡(jiǎn)單介紹：血脂試紙非接觸式裁切機(jī)針對(duì)人工邊線對(duì)位，定位孔定位。類型的設(shè)備無(wú)需編輯程序。操作簡(jiǎn)單快捷 采用進(jìn)口HSS-AL高速合金鋼刀片，具有很好的耐磨性，且經(jīng)久耐用。 可估計(jì)客戶需要度鈦處理，一般可使用2到3年無(wú)需要修磨。 設(shè)備可定位為生產(chǎn)線上的單獨(dú)工位，配合生產(chǎn)線進(jìn)行全自動(dòng)生產(chǎn)。 設(shè)備操作簡(jiǎn)單，不要反復(fù)翻轉(zhuǎn)界面設(shè)置項(xiàng)目，人工光學(xué)對(duì)位功能無(wú)需編輯程序。 邏輯符合人性思維，給人舒適、輕松的工作狀態(tài) 產(chǎn)品型號(hào)： 所在地：北京市 更新時(shí)間：2024-05-17 |
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AFIXX 20m鍵合機(jī) 簡(jiǎn)單介紹：AFIXX 20m 鍵合機(jī)手動(dòng)系統(tǒng) 臺(tái)式系統(tǒng)設(shè)計(jì)用于手動(dòng)將單個(gè)基板臨時(shí)粘合到剛性載體或其他載體上。適用于非常薄的易碎基材和柔性塑料材料。專為實(shí)驗(yàn)室開發(fā)的臨時(shí)粘合技術(shù)。這是一個(gè)多功能系統(tǒng)，非常適合許多R＆D應(yīng)用程序。AFIXX 20m配備有加熱板，可將載體或基材加熱到200℃。 產(chǎn)品型號(hào)：AFIXX 20m 所在地：北京市 更新時(shí)間：2024-05-17 |
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BASIXX ST20+勻膠涂膜機(jī)ST20+ 簡(jiǎn)單介紹：勻膠涂膜機(jī)ST20+ 實(shí)驗(yàn)室臺(tái)式勻膠機(jī) 是一款緊湊的旋涂，顯影，清潔和干燥半自動(dòng)系統(tǒng)，旨在為科學(xué)和研究領(lǐng)域的用戶提供高效，安全和清潔的實(shí)驗(yàn)室系統(tǒng)。 該設(shè)備具有易于使用的界面和7英寸彩色觸摸屏。 該軟件包含程序菜單管理，例如編寫，編輯，保存和加載。 服務(wù)區(qū)提供用于手臂和旋轉(zhuǎn)板以及介質(zhì)控制的設(shè)置選項(xiàng)。 還集成了可通過USB保存的軟件更新功能以及日志文件和程序備份功能。 產(chǎn)品型號(hào)：BASIXX ST20+ 所在地：北京市 更新時(shí)間：2024-05-17 |
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HT20eUNIXX系列單面烘烤加熱臺(tái) 簡(jiǎn)單介紹：UNIXX系列單面烘烤加熱臺(tái)，HT20e設(shè)計(jì)用于基材的單面烘烤，用于預(yù)烘烤和后烘烤或脫水烘烤過程。尤其適用于粘合劑底漆（HMDS;六甲基二硅氮烷），可用于蒸汽底漆或真空干燥的熱板模塊。帶有電子可編程升降針的烘烤模塊，配有觸摸屏，便于操作。 軟件提供了簡(jiǎn)單方便的過程控制和配方創(chuàng)建。 界面簡(jiǎn)單易于使用，可隨時(shí)控制流程。這些溫度模塊有臺(tái)式安裝式，塔式安裝式或獨(dú)立式供選擇。 產(chǎn)品型號(hào)：HT20e 所在地：北京市 更新時(shí)間：2024-05-17 |
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MR 200晶圓劃片機(jī) 簡(jiǎn)單介紹：MR200 晶圓劃片機(jī) 手動(dòng)劃線可無(wú)誤切割 結(jié)構(gòu)化硅晶片的制造 MR 200的設(shè)置可為結(jié)構(gòu)化硅晶片切割提供高精度劃線。MR 200是*的工具，特別是對(duì)于半導(dǎo)體技術(shù)中的REM制備。MR 200還適用于少量芯片的單芯片化，例如在實(shí)驗(yàn)室中使用。設(shè)備基本設(shè)置為劃線參數(shù)的調(diào)整提供了多種選擇。高質(zhì)量的變焦光學(xué)元件可將放大倍率從8倍無(wú)級(jí)調(diào)節(jié)到40倍。光學(xué)和機(jī)械學(xué)可以通過輔助模塊進(jìn)行擴(kuò)展，以提高效率和操作 產(chǎn)品型號(hào)：MR 200 所在地：北京市 更新時(shí)間：2024-05-17 |
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M-HP 200M-HP熱板 簡(jiǎn)單介紹：介紹：M-HP熱板 200用于烘烤和回火加熱晶圓片或基板。該熱板適用于直徑大為8英寸的晶圓片或大6英寸 x6英寸的襯底。內(nèi)置模塊可輕松用于濕式工作臺(tái)。工藝參數(shù)（溫度，加熱時(shí)間）可以隨時(shí)更改。 熱板溫度可在20°C和250C之間調(diào)節(jié)?？稍?到999秒之間設(shè)置處理時(shí)間。 產(chǎn)品型號(hào)：M-HP 200 所在地：北京市 更新時(shí)間：2024-05-17 |
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M-SPIN 200勻膠旋涂?jī)xM-SPIN 簡(jiǎn)單介紹：勻膠旋涂?jī)xM-SPIN 200是用于均勻涂覆和干燥晶圓片或襯底。該勻膠旋涂?jī)x適用于直徑大為8英寸的晶圓片，或大為6英寸 x 6英寸的襯底。它可使用分配臂全自動(dòng)工作，分配移動(dòng)托盤，可定義數(shù)量。該勻膠旋涂?jī)x配備了頂蓋的聯(lián)鎖機(jī)制，和可視化全圖形觸摸面板。M-Spin 200勻膠旋涂?jī)x包含一個(gè)內(nèi)置模塊，該模塊連接到柔性電纜，外接到一個(gè)19英寸外部控件上。 產(chǎn)品型號(hào)：M-SPIN 200 所在地：北京市 更新時(shí)間：2024-05-17 |
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SRD干燥機(jī)旋轉(zhuǎn)沖洗干燥機(jī) 簡(jiǎn)單介紹：?旋轉(zhuǎn)沖洗干燥機(jī)用于沖洗和干燥直徑大為12英寸的圓形或大7英寸方形的基材； ?可提供滿足您特定要求的標(biāo)準(zhǔn)轉(zhuǎn)子和定制轉(zhuǎn)子。轉(zhuǎn)子可以輕松快速地更換； ?處理腔室上的儲(chǔ)罐加熱。處理腔室由電拋光不銹鋼制成。包含氮?dú)饧訜幔?br />正面的主開關(guān)，機(jī)械門鎖，PLC彩色觸摸屏和無(wú)刷伺服電機(jī)是標(biāo)準(zhǔn)設(shè)備的一部分。 產(chǎn)品型號(hào)：SRD干燥機(jī) 所在地：北京市 更新時(shí)間：2024-05-17 |
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SCS112/SCSe124/SCSe126濕法顯影掩膜版清洗系統(tǒng) 簡(jiǎn)單介紹：SCS112型是一款高效率手動(dòng)型的濕法顯影掩膜版清洗系統(tǒng)，專門設(shè)計(jì)用于在劃片或劃片后清洗晶片，針對(duì)8英寸晶圓片。SCSe124/126型是用于光掩模，晶圓和基材的亞微米級(jí)清潔的理想解決方案，針對(duì)10英寸晶圓片。 產(chǎn)品型號(hào)：SCS112/SCSe124/SCSe126 所在地：北京市 更新時(shí)間：2024-05-17 |
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CESx124UltraT進(jìn)口濕法刻蝕和剝離系統(tǒng) 簡(jiǎn)單介紹：UltraT進(jìn)口濕法刻蝕和剝離系統(tǒng)專為滿足當(dāng)今晶圓、光掩模和基板的前沿應(yīng)用的特殊工藝需求而設(shè)計(jì)。這款高效的蝕刻和清潔系統(tǒng)CESx124、126、128或133是理想選擇，可滿足不同大小尺寸的晶片、光掩模和襯底，不論是從小直徑還是非常大直徑。 產(chǎn)品型號(hào)：CESx124 所在地：北京市 更新時(shí)間：2024-05-17 |
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XES-70S1太陽(yáng)能模擬器 簡(jiǎn)單介紹：太陽(yáng)能模擬器有效輻照面積：70mm x 70mm。旋轉(zhuǎn)透鏡單元可選擇照射方向（上，下，左，右）?？蛇x擇的輸入功率范圍（100V或220V）。AA*認(rèn)證JIS 8912 / IEC 60904-9（2007）/ ASTM E927-5 。滿足研究的廣泛需求。 產(chǎn)品型號(hào)：XES-70S1 所在地：北京市 更新時(shí)間：2024-05-17 |
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XES-50S2便攜式太陽(yáng)能模擬器 簡(jiǎn)單介紹：便攜式太陽(yáng)能模擬器通過一些性能改進(jìn)優(yōu)化，功能更廣泛，更加貼近客戶使用。AM濾光片可匹配300nm，易于從外部安裝和拆卸AM過濾器。準(zhǔn)備2個(gè)插槽，可添加帶通濾波器或調(diào)光網(wǎng)狀濾波器，通過與信號(hào)源計(jì)（Keithley 2400）輕松連接，可實(shí)現(xiàn)遠(yuǎn)程快門控制?？商砑虞椛涞乃p器（可選）。 產(chǎn)品型號(hào)：XES-50S2 所在地：北京市 更新時(shí)間：2024-05-17 |
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XES-40S3便攜式太陽(yáng)能模擬器 簡(jiǎn)單介紹：我們制造的高度準(zhǔn)確的太陽(yáng)模擬器，用于評(píng)估需要重建陽(yáng)光的地方。通過充分利用這些技術(shù)，我們開發(fā)了這種便攜式太陽(yáng)能模擬器，可以輕松地復(fù)制陽(yáng)光。我們的設(shè)備是針對(duì)研究目的進(jìn)行初始評(píng)估和檢查的完美解決方案。 產(chǎn)品型號(hào)：XES-40S3 所在地：北京市 更新時(shí)間：2024-05-17 |
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XHS-50S1高光譜匹配太陽(yáng)能模擬器（兩燈型）50mm 簡(jiǎn)單介紹：高光譜匹配太陽(yáng)能模擬器（兩燈型）50mm通過采用氙氣燈和鹵素?zé)舻膬蓚€(gè)光源，實(shí)現(xiàn)了接近日光的高光譜匹配。除了8英寸的模型外，還開發(fā)了一個(gè)小模型照射面積50mm。 產(chǎn)品型號(hào)：XHS-50S1 所在地：北京市 更新時(shí)間：2024-05-17 |
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