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邁可諾技術有限公司
主營產品： 美國Laurell勻膠機,WS1000濕法刻蝕機,Cargille光學凝膠,EDC-650顯影機,NOVASCAN紫外臭氧清洗機 |
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邁可諾技術有限公司
主營產品： 美國Laurell勻膠機,WS1000濕法刻蝕機,Cargille光學凝膠,EDC-650顯影機,NOVASCAN紫外臭氧清洗機 |
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| 產品圖片 | 產品名稱 | |||
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電鏡耗材/AFM探針 簡單介紹：AFM接觸式探針Econo-ESP-Au 10根/盒 34-805.Econo-ESP-Au-10 AFM探針Olympus不導電探針AC160TS 10根/盒 803.OLY.AC160TS-R3-10 AFM探針Olympus不導電探針AC240TS 10根/盒 803.OLY.AC240TS-R3-10 產品型號： 所在地：武漢市 更新時間：2024-05-17 |
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電鏡耗材/SEM樣品臺 簡單介紹：SEM樣品臺 直徑12.5mm釘形樣品臺AGG301 JEOL圓柱形樣品臺直徑12.5mm，高度5mm，50個/包 AGG3385 Hitachi日立M4樣品臺直徑15mm，高度6mm AGG3313 SEM-TEM載網樣品臺適用于Zeiss,FEI和TESCAN掃描電鏡 AGG3662 產品型號： 所在地：武漢市 更新時間：2024-05-17 |
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SEM 燈絲電鏡耗材 簡單介紹：【產品詳情】 Agar鎢燈絲在采用高延展性的鎢材料，在嚴格精密的生產工藝下生產。 · 鎢燈絲有燈絲直徑0.12mm及0.15mm兩種規(guī)格，0.15mm直徑規(guī)格鎢燈絲使用壽命顯著長于0.12mm規(guī)格。 · 此鎢燈絲適用于Zeiss蔡司鎢燈絲掃描電鏡，規(guī)格為一盒10根燈絲。 產品型號：SEM 燈絲 所在地：武漢市 更新時間：2024-05-17 |
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PTU021350PTFE非層壓膜過濾器 簡單介紹：我們無支撐的疏水性PTFE非層壓膜過濾器非常適合滅菌和排氣應用，涉及空氣，氣體和與大多數(shù)其他過濾器不兼容的溶劑/酸。 產品型號：PTU021350 所在地：北京市 更新時間：2024-05-17 |
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PTFE0113100PTFE層壓膜過濾器 簡單介紹：PTFE膜具有親水性，疏水性，非層壓和層壓選項，適用于各種應用和溫度。 PTFE層壓膜過濾器具有標準的非層壓疏水膜的質量，并具有背襯層的額外好處，使它們更厚且更易于處理。 產品型號：PTFE0113100 所在地：北京市 更新時間：2024-05-17 |
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ISA-WIP500溫等靜壓機 Warm Isostatic Press 簡單介紹：溫等靜壓機 Warm Isostatic Press商品概要：溫度的物性變化所需產品在目標溫度下作壓制/高壓處理的設備，使用流體（水）溫度大可用90℃，以上溫度可用密度變化小的油，主要用于電氣，電子材料的層壓工藝。 產品型號：ISA-WIP500 所在地：北京市 更新時間：2024-05-17 |
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ISA-CIP500冷等靜壓機Cold Lsostatic Press 簡單介紹：冷等靜壓機Cold Lsostatic Press商品說明：它被稱為靜水壓力（冷等靜壓）和CIP處理，并被廣泛用于需要等方向壓縮成型的產品- 粉體成型（陶瓷，高強度復合材料）。該產品在常溫下用于成型目的，而不需要根據(jù)溫度改變的物理性能。 產品型號：ISA-CIP500 所在地：北京市 更新時間：2024-05-17 |
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GM1010/GM1020/GM1075EM Resist SU-8負性抗蝕劑 簡單介紹：EM Resist SU-8負性抗蝕劑產品，非常適合半導體應用。我們的產品有各種形式和厚度范圍。 典型的SU-8過程包括以下步驟： 基板準備 旋涂 松弛時間以提高表面均勻度 軟烤 曝光后烘烤 發(fā)展歷程 沖洗并干燥 可選硬烤 產品型號：GM1010/GM1020/GM1075 所在地：北京市 更新時間：2024-05-17 |
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HT20pUNIXX系列手動控制加熱臺 簡單介紹：UNIXX系列手動控制加熱臺帶有氣動升降銷的烘焙模塊配有一個手動PID控制器和計時器開關。 經過微處理（PID）控制器用于高測量溫度控制準確性。 確定過程的設定值和參數(shù)用5場塑料薄膜鍵盤調節(jié)。可自由編程的定時開關有兩個可調派生計時器和兩個省略計時器。 與各種參數(shù)的可能性，兩個輸出觸點和兩個切換輸入將允許使用任何一種應用程序可以使用的。 產品型號：HT20p 所在地：北京市 更新時間：2024-05-17 |
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AvCarb碳紙MGL190 MGL370 簡單介紹：AvCarb碳紙MGL190 MGL370，MGL280是適用于燃料電池和電解槽應用的優(yōu)質復 寫紙。 新產品展示了優(yōu)于行業(yè)標準產品的優(yōu)勢，憑借可比較的性能和性能數(shù)據(jù)， MGL 產品可與其他行業(yè)標準復寫紙互換使用。 產品型號： 所在地：北京市 更新時間：2024-05-17 |
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VSU45真空回流焊爐 簡單介紹：可編程真空回流焊爐和釬焊爐，加熱面積為420x420mm 紅外燈交叉放置在工具板下方和蓋子中。尺寸為420x420mm的方形工具板可以用任何合適的材料制成，也可以在其中使用用于固定裝置的定制開口。通過設計，可將模具板及其上的零件一起裝入腔室內-適用于批量生產。通過從腔室底部吹向工具板的氮氣流進行工藝冷卻。 產品型號：VSU45 所在地：北京市 更新時間：2024-05-17 |
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VSU28真空回流焊爐 簡單介紹：可編程真空回流焊爐和釬焊爐，加熱面積為260x210mm 置于工具板下方（或可選地，也位于上方）的紅外燈將其加熱。尺寸為260x210mm的矩形工具板可以用任何合適的材料制成，也可以在其中使用用于固定裝置的定制開口。通過設計，可將模具板及其上的零件一起裝入腔室內-適用于批量生產。通過從腔室底部吹向工具板的氮氣流進行工藝冷卻。腔室本身是水冷的。如果未與安裝機架MR23CP一起訂購，則需要外部冷 產品型號：VSU28 所在地：北京市 更新時間：2024-05-17 |
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VSU20真空回流焊爐 簡單介紹：可編程真空回流焊爐，加熱區(qū)域直徑為200mm 真空回流爐配備有一個由實心鋁制成的熱板，上面涂有陶瓷。另一個水冷板安裝在熱板下方。在冷卻時，將冷板抬起并壓在熱板上，從而迅速冷卻。此功能還可以在真空下進行冷卻。 產品型號：VSU20 所在地：北京市 更新時間：2024-05-17 |
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VSU12真空回流焊爐12 簡單介紹：真空回流焊爐12放置在工具板上的紅外燈將其加熱。該工具板為正方形,尺寸為100x100mm,可以用任何合適的材料制成。也可以預制帶有定制開口的內部固定裝置?？梢詫⒐ぞ甙寮捌渖系牧慵黄鸶鼡Q。這樣可以進行批量生產。氮氣流從腔室底部吹向工具板,從而將其冷卻。腔室本身是空氣冷卻的。 產品型號：VSU12 所在地：北京市 更新時間：2024-05-17 |
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MPEM-1600掩膜曝光光刻機Mask Aligner 簡單介紹：MYCRO*荷蘭光刻機（掩膜曝光光刻機Mask Aligner ），是的光刻系統(tǒng)，為半導體制造和科研領域提供品質優(yōu)良穩(wěn)定的全波段紫外光刻機系統(tǒng)，廣泛的應用于半導體光刻工藝制程、微機電MEMS、二極管芯片、發(fā)光二極體（LED）芯片制造、生物器件、納米科技、顯示面板LCD、光電器件、奈米壓印以及電子封裝等諸多領域。 產品型號：MPEM-1600 所在地：北京市 更新時間：2024-05-17 |
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MEMA-800光刻機Mask Aligner 簡單介紹：MYCRO*荷蘭光刻機（光刻機Mask Aligner），是的光刻系統(tǒng)，為半導體制造和科研領域提供品質優(yōu)良穩(wěn)定的全波段紫外光刻機系統(tǒng)，廣泛的應用于半導體光刻工藝制程、微機電MEMS、二極管芯片、發(fā)光二極體（LED）芯片制造、生物器件、納米科技、顯示面板LCD、光電器件、奈米壓印以及電子封裝等諸多領域。 產品型號：MEMA-800 所在地：北京市 更新時間：2024-05-17 |
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MSMA-1200M光刻機Mask MSMA 簡單介紹：MYCRO*荷蘭光刻機（光刻機Mask MSMA），是的光刻系統(tǒng)，為半導體制造和科研領域提供品質優(yōu)良穩(wěn)定的全波段紫外光刻機系統(tǒng)，廣泛的應用于半導體光刻工藝制程、微機電MEMS、二極管芯片、發(fā)光二極體（LED）芯片制造、生物器件、納米科技、顯示面板LCD、光電器件、奈米壓印以及電子封裝等諸多領域?？蛻羧缑绹娇蘸教旃?、飛利浦、摩托羅拉、惠普、牛津大學、劍橋大學、斯坦福大學、倫敦大學等等。 產品型號：MSMA-1200M 所在地：北京市 更新時間：2024-05-17 |
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MMA16光刻機Aligner MMA 簡單介紹：MYCRO*荷蘭（光刻機Aligner MMA16），是的光刻系統(tǒng)，為半導體制造和科研領域提供品質優(yōu)良穩(wěn)定的全波段紫外光刻機系統(tǒng)，廣泛的應用于半導體光刻工藝制程、微機電MEMS、二極管芯片、發(fā)光二極體（LED）芯片制造、生物器件、納米科技、顯示面板LCD、光電器件、奈米壓印以及電子封裝等諸多領域?？蛻羧缑绹娇蘸教旃尽w利浦、摩托羅拉、惠普、牛津大學、劍橋大學、斯坦福大學、倫敦 產品型號：MMA16 所在地：北京市 更新時間：2024-05-17 |
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MR200精密金剛石晶圓劃片機 簡單介紹：MYCRO*MR200手動精密金剛石晶圓劃片機準確切割結構化硅晶片，是理想工具-半導體技術的制造。MR 200的設置和設備可為定義的結構化硅晶片切割提供高精度劃線。MR 200是*的工具，特別是對于半導體技術中的REM制造。 MR200還適用于少量芯片的單芯片化，例如在實驗室中使用。 產品型號：MR200 所在地：北京市 更新時間：2024-05-17 |
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E3100Quorum臨界點干燥儀 簡單介紹：Quorum制造了一系列臨界點干燥機，以滿足電子顯微鏡（EM）和其他應用的需求。 Quorum臨界點干燥儀（有時稱為超臨界干燥）是一種在掃描電子顯微鏡（SEM）中進行檢查之前對生物組織進行脫水的既定方法。這項技術是由Polaron（Quorum的者）于1971年*引入的，用于制備SEM標本，而Quorum E3100 臨界點干燥機仍然體現(xiàn)了包括水平腔室在內的原始設計理念 。 產品型號：E3100 所在地：北京市 更新時間：2024-05-17 |
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