國(guó)產(chǎn)顯微鏡攝像頭——科研級(jí)數(shù)字相機(jī) 參考價(jià)：面議
國(guó)產(chǎn)顯微鏡攝像頭——科研級(jí)數(shù)字相機(jī)朗研顯微鏡攝像頭VTX12/VTX20，屬于科研級(jí)數(shù)字相機(jī)，即使在低放大倍率下，VTX12/VTX20攝像頭也能實(shí)現(xiàn) 高幀頻和...
結(jié)合橢偏反射 參考價(jià)：面議
結(jié)合橢偏反射性能優(yōu)異的多角度手動(dòng)角度計(jì)和角度精度*的激光橢偏儀允許測(cè)量單層薄膜和層疊膜的折射率、消光系數(shù)和膜厚。
多角度激光橢偏儀 參考價(jià)：面議
多角度激光橢偏儀性能優(yōu)異的多角度手動(dòng)角度計(jì)和角度精度*的激光橢偏儀允許測(cè)量單層薄膜和層疊膜的折射率、消光系數(shù)和膜厚。
自動(dòng)光譜橢偏儀SENDURO® 參考價(jià)：面議
自動(dòng)光譜橢偏儀SENDURO®所有的全自動(dòng)光譜橢偏免除了用戶根據(jù)高度和傾斜度手動(dòng)地對(duì)準(zhǔn)樣品的麻煩，這對(duì)于高精度和可重復(fù)的光譜橢偏是必要的。
紅外光譜橢偏儀SENDIRA 參考價(jià)：面議
紅外光譜橢偏儀SENDIRA利用紅外光譜中分子振動(dòng)模的吸收帶，可以分析薄膜的組成。此外，載流子濃度可以用傅立葉紅外光譜儀FTIR測(cè)量。
低成本高效益的光譜橢偏儀SENpro 參考價(jià)：面議
低成本高效益的光譜橢偏儀SENpro覆蓋寬的光譜范圍，從190 nm(深紫外)到3500 nm(近紅外)。傅立葉紅外光譜儀FTIR提供了高光譜分辨率用以分析厚度...
PECVD等離子沉積設(shè)備DEPOLAB 200 參考價(jià)：面議
PECVD等離子沉積設(shè)備DEPOLAB 200根據(jù)其模塊化設(shè)計(jì)，PECVD Depolab 200可升級(jí)為更大的真空泵組，低頻射頻源和更多的氣路。
帶預(yù)真空室的化學(xué)氣相沉積設(shè)備SI 500 PPD 參考價(jià)：面議
帶預(yù)真空室的化學(xué)氣相沉積設(shè)備SI 500 PPD的特色是預(yù)真空室和干泵裝置，用于無油、高產(chǎn)量和潔凈的化學(xué)氣相沉積過程。
等離子沉積設(shè)備SI 500 D 參考價(jià)：面議
等離子沉積設(shè)備SI 500 D低刻蝕速率，高擊穿電壓，低應(yīng)力、不損傷襯底以及在低于100°C的沉積溫度下的低界面態(tài)密度，使得所沉積的薄膜具有優(yōu)異的性能...
RIE等離子刻蝕機(jī)SI 591 參考價(jià)：面議
RIE等離子刻蝕機(jī)SI 591：預(yù)真空室和計(jì)算機(jī)控制的等離子體刻蝕工藝條件，使得SI 591 具有優(yōu)異的工藝再現(xiàn)性和等離子體蝕刻工藝靈活性。靈活性、模塊性和占地...
等離子刻蝕機(jī) 參考價(jià)：面議
RIE Etchlab 200等離子刻蝕機(jī)根據(jù)其模塊化設(shè)計(jì)，等離子蝕刻機(jī)Etchlab 200可升級(jí)為更大的真空泵組，預(yù)真空室和更多的氣路。
等離子刻蝕機(jī) 參考價(jià)：面議
等離子刻蝕機(jī)由于離子能量低，離子能量分布帶寬窄，因此可以用我們的等離子體刻蝕機(jī)SI 500進(jìn)行低損傷刻蝕和納米結(jié)構(gòu)的刻蝕。
熱分析-紅外-氣質(zhì)聯(lián)用系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
熱分析-紅外-氣質(zhì)聯(lián)用系統(tǒng)介紹：珀金埃爾默提供完善的產(chǎn)品和技術(shù)服務(wù)，可將不同產(chǎn)品聯(lián)合使用，充分利用各個(gè) 儀器的優(yōu)勢(shì)，產(chǎn)生協(xié)同效應(yīng)，達(dá)到單次試驗(yàn)獲得多個(gè)結(jié)果的目的...
紅外成像系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
紅外成像系統(tǒng)介紹：Spotlight400/400NFT-IR紅外光譜化學(xué)成像系統(tǒng)以高效率享譽(yù)業(yè)界的實(shí)驗(yàn)室傅里葉變換紅外光譜化學(xué)成像系統(tǒng)，在廣泛的行業(yè)里顯著地提...
三重四級(jí)桿液相色譜質(zhì)譜聯(lián)用儀 參考價(jià)：面議
QSight三重四級(jí)桿液相色譜質(zhì)譜聯(lián)用儀介紹：QSightTM三重四極桿液質(zhì)聯(lián)用儀具有層流質(zhì)譜技術(shù)和加熱誘導(dǎo)脫溶劑技術(shù)（HSIDTM），性能穩(wěn)定抗污染，非常適用...
氣相色譜儀 參考價(jià)：面議
Clarus氣相色譜儀介紹：作為珀金埃爾默多種多樣的氣相色譜系列產(chǎn)品的基礎(chǔ)，Clarus®690/590氣相色譜儀代表了行業(yè)內(nèi)先進(jìn)的技術(shù)革新。擁有配置...
全自動(dòng)熱脫附儀 參考價(jià)：面議
urboMatrix全自動(dòng)熱脫附儀介紹：作為熱脫附（TD）技術(shù)的行業(yè)，珀金埃爾默除了可提供五種不同的配置儀器，還可以提供在線VOC分析的全套設(shè)備，還可以在采集前...
全自動(dòng)頂空進(jìn)樣器 參考價(jià)：面議
全自動(dòng)頂空進(jìn)樣器介紹：TurboMatrix頂空和帶捕集阱頂空自動(dòng)進(jìn)樣器TurboMatrix頂空和捕集阱頂空能夠提供的精度、靈敏度和分析效率。是尋求快速樣品處...
氣相色譜/質(zhì)譜聯(lián)用儀 參考價(jià)：面議
氣相色譜/質(zhì)譜聯(lián)用儀介紹：珀金埃爾默推出的GCMS 2400™ System，為各種類型和規(guī)模的實(shí)驗(yàn)室提供了兼具優(yōu)異靈敏度和穩(wěn)定性的先 進(jìn)工具。
蔡司共聚焦顯微鏡 參考價(jià)：面議
蔡司共聚焦顯微鏡的多功能 Smartproof 5 快速轉(zhuǎn)盤共聚焦顯微鏡是用于表面分析的集成系統(tǒng)：快速，精確，可重復(fù)。可用于各種工業(yè)應(yīng)用——比如粗糙度分析和地形...
化學(xué)氣相沉積系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)PECVD沉積設(shè)備SI 500 PPD便于在從室溫到350℃的溫度范圍內(nèi)進(jìn)行SiO2、SiNx、SiOxNy和a-Si的標(biāo)準(zhǔn)的化學(xué)氣相沉積工藝。
深硅刻蝕 參考價(jià)：面議
進(jìn)口深硅刻蝕：三螺旋平行板天線(PTSA)等離子源是SENTECH等離子體工藝設(shè)備的屬性。PTSA源能生成具有高離子密度和低離子能量的均勻等離子體。它具有高耦合...
沉積系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
三到六個(gè)端口傳送腔室可用于集成ICP等離子刻蝕機(jī)、RIE刻蝕機(jī)、原子層沉積系統(tǒng)、PECVD和ICPECVD沉積設(shè)備，以滿足研發(fā)的要求。樣品可以通過預(yù)真空室和/或...
刻蝕系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
刻蝕系統(tǒng)三到六個(gè)端口傳送腔室可用于集成ICP等離子刻蝕機(jī)、RIE刻蝕機(jī)、原子層沉積系統(tǒng)、PECVD和ICPECVD沉積設(shè)備，以滿足研發(fā)的要求。樣品可以通過預(yù)真空...(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)
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