反應(yīng)離子刻蝕機 參考價：面議
反應(yīng)離子刻蝕機我們的等離子蝕刻設(shè)備包括用功能強大的用戶友好軟件與模擬圖形用戶界面，參數(shù)窗口，工藝窗口，數(shù)據(jù)記錄和用戶管理。
英國光柵刻蝕 參考價：面議
英國光柵刻蝕三螺旋平行板天線(PTSA)等離子源是SENTECH等離子體工藝設(shè)備的屬性。PTSA源能生成具有高離子密度和低離子能量的均勻等離子體。它具有高耦合效...
ZEISS掃描顯微鏡 參考價：面議
ZEISS掃描顯微鏡系列將高性能的掃描電鏡和直觀的、友好的用戶界面體驗結(jié)合在一起， 同時能夠吸引經(jīng)驗豐富的用戶以及新用戶。無論是在生命科學(xué)， 材料科學(xué)， 或例行...
雙束電鏡 參考價：面議
雙束電鏡借助這款掃描電子顯微鏡的超快速度,開啟您對新維度的探索。現(xiàn)如今,在MultiSEM出色的圖像采集速度推動下,您終于能夠以納米級的圖像分辨率對大型樣品進行...
掃描電鏡 參考價：面議
掃描電鏡操作直觀的模塊化掃描電子顯微鏡(SEM)平臺適用于日常檢測與研究應(yīng)用，高可用性：EVO配備的兩種用戶界面(SmartSEMTouch和SmartSEM)...
雙束掃描電鏡 參考價：面議
雙束掃描電鏡借助這款掃描電子顯微鏡的超快速度,開啟您對新維度的探索。現(xiàn)如今,在MultiSEM出色的圖像采集速度推動下,您終于能夠以納米級的圖像分辨率對大型樣品...
3D掃描電鏡 參考價：面議
蔡司3D掃描電鏡是一款具有處理各種材料能力的分析型顯微鏡，為您提供優(yōu)異的成像品質(zhì)。
日本傾斜角刻蝕 參考價：面議
日本傾斜角刻蝕代表了直接置片等離子刻蝕機家族，它結(jié)合了RIE的平行板電極設(shè)計和直接置片的成本效益設(shè)計的優(yōu)點。Etchlab200的特征是簡單和快速的樣品加載，從...
SENTECH二維材料刻蝕 參考價：面議
SENTECH二維材料刻蝕能夠在低溫100°C下高均勻度和高保形性地覆蓋敏感襯底和膜層，在樣品表面提供高通量的反應(yīng)性氣體，而不受紫外線輻射或離子轟擊。
德國電子束曝光 參考價：面議
德國電子束曝光主要功能：曝光速度快精度高，可采用大寫場大束流進行曝光，適用于科研及小批量生產(chǎn)中使用；自動化程度高，除了放樣取樣外，整個曝光過程只需要編輯曝光的相...
國產(chǎn)電子束光刻 參考價：面議
國產(chǎn)電子束光刻主要功能：曝光速度快精度高，可采用大寫場大束流進行曝光，適用于科研及小批量生產(chǎn)中使用；自動化程度高，除了放樣取樣外，整個曝光過程只需要編輯曝光的相...
進口深硅刻蝕 參考價：面議
進口深硅刻蝕：三螺旋平行板天線(PTSA)等離子源是SENTECH等離子體工藝設(shè)備的屬性。PTSA源能生成具有高離子密度和低離子能量的均勻等離子體。它具有高耦合...
靈活的自動掃描系統(tǒng) 參考價：面議
靈活的自動掃描系統(tǒng)低成本桌面式壽命測量系統(tǒng)，用于手動操作表征不同制備階段的各種不同硅樣品。可選的手動操作Z軸用于厚度多達156毫米的樣品。標準軟件可輸出可視化的...
靈活的自動掃描系統(tǒng) 參考價：面議
靈活的自動掃描系統(tǒng)MDPmap設(shè)計用于離線生產(chǎn)控制或研發(fā)、測量少子壽命、光電導(dǎo)率、電阻率和缺陷信息等參數(shù)的小型臺式無觸點電特性測量儀器，在穩(wěn)態(tài)或短脈沖激勵下(μ...
激光掃描系統(tǒng) 參考價：面議
激光掃描系統(tǒng)該儀器被設(shè)計用于工藝和材料的質(zhì)量監(jiān)控，例如單晶或多晶硅。多晶硅磚切割標準的自動輸出。能夠根據(jù)爐子的輸出質(zhì)量進行單獨的爐子監(jiān)控進行優(yōu)化和決定投資。MD...
在線壽命和電阻率掃描儀 參考價：面議
在線壽命和電阻率掃描儀電池生產(chǎn)線的進料質(zhì)量調(diào)查是常見的應(yīng)用案例，以及在鈍化和擴散之后的工藝質(zhì)量檢查，在許多其他的專業(yè)應(yīng)用領(lǐng)域也有很大的可能性。只需要集成以太網(wǎng)連...
快速自動掃描系統(tǒng) 參考價：面議
快速自動掃描系統(tǒng)MDPinline ingot系統(tǒng)是可用于多晶硅電氣特性的快的測量工具。它被設(shè)計用于高產(chǎn)量生制造工廠的研究用途。每塊磚都可以在不到兩分鐘的時間里...
少子壽命測試儀 參考價：面議
少子壽命測試儀MDPinline是一個用于定量測量少子壽命的緊湊型高速生產(chǎn)集成自動掃描系統(tǒng)。當(dāng)晶片通過傳送裝置移動到儀器下面時，一片晶片的形貌測量在一秒鐘的時間...
薄膜反射和透射的在線監(jiān)測系統(tǒng) 參考價：面議
薄膜反射和透射的在線監(jiān)測系統(tǒng)RT inline 薄膜測量系統(tǒng)是為沉積過程的在線質(zhì)量控制而設(shè)計的。該方法基于SENTECH著名的薄膜厚度探針FTPadv，用于測量...
自動掃描薄膜測量儀器 參考價：面議
自動掃描薄膜測量儀器SenSol自動掃描儀器設(shè)計用于玻璃薄膜光伏制造中薄膜性能的質(zhì)量控制的在線測量。大量的傳感器可以集成到SenSol傳感器平臺中。這也允許特定...
激光橢偏儀 參考價：面議
激光橢偏儀SE 800 PV是分析結(jié)晶和多晶硅太陽能電池防反射膜的理想工具。可以測量單層薄膜(SiNx、SiO2、TiO2、Al2O3)和多層疊層膜(SiNX/...
激光橢偏儀 參考價：面議
激光橢偏儀多角度SE 400adv PV在632.8nm的氦氖激光波長下，在紋理化的單晶和多晶硅片上提供防反射單膜的膜厚和折射率?？筛鼡Q的晶片載片器允許對多晶晶...
晶體硅太陽電池 參考價：面議
晶體硅太陽電池SENperc PV是為PERC太陽能電池制造質(zhì)量控制而設(shè)計的。它測量SiO2、Al2O3和SiNX單層膜和疊層膜，這些單層膜和疊層膜用于PERC...
綜合薄膜測量軟件 參考價：面議
綜合薄膜測量軟件集成的色散模型用于描述所有常用材料的光學(xué)特性。利用快速擬合算法，通過改變模型參數(shù)將計算得到的光譜調(diào)整到實測光譜。
3