NSC-4000（M）磁控濺射系統(tǒng)：帶有水冷或者加熱（可加熱到700度）功能，可達到到8“旋轉(zhuǎn)平臺，支持到4個偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵，極限真空可達1...

NLD-4000（ICPA）全自動PEALD系統(tǒng)：ALD原子層沉積可以滿足精確膜厚控制以及高深寬比結(jié)構(gòu)的保形沉積，這方面ALD原子層沉積遠超過其它沉積技術(shù)。由于...

NRE-4000（ICPA）全自動ICP刻蝕系統(tǒng)：自動上下載片，帶ICP等離子源和偏壓樣品臺的高速刻蝕系統(tǒng)，系統(tǒng)可以達到高速率、低損傷、高深寬比的刻蝕效果。可實...

NRE-3000 反應(yīng)離子刻蝕機：PC控制的RIE反應(yīng)離子刻蝕系統(tǒng)，淋浴頭氣體分布裝置以及水冷RF樣品，不銹鋼柜子及13“的上蓋式圓柱形鋁腔,便于晶圓片裝載.腔...

RIE刻蝕機：獨立式RIE系統(tǒng)，淋浴頭氣體分布裝置以及水冷RF樣品，不銹鋼柜子以及13“的上蓋式圓柱形鋁腔,便于晶圓片裝載.腔體有兩個端口:一個帶有2“的視窗,...

進口晶圓清洗機：Nano-Master進口兆聲單晶圓及掩模版清洗機提供高可重復(fù)性、高均勻性及兆聲清洗。它可以在一個工藝步驟中包含了的無損兆聲清洗、化學(xué)試劑清洗、...

SWC-4000兆聲晶圓（掩模版）清洗機：Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機提供高可重復(fù)性、高均勻性及的兆聲清洗、兆聲輔助下光刻膠剝離，以及濕法刻蝕...

NSC-4000（A）全自動磁控濺射系統(tǒng)：立式自動系統(tǒng)，帶有水冷或者加熱（Z高可加熱到700度）功能，Z大到6“旋轉(zhuǎn)平臺，Z大可支持到4個偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配...

NRE-4000（ICPM）ICP等離子刻蝕機：是帶ICP等離子源和偏壓樣品臺的高速刻蝕系統(tǒng)，系統(tǒng)可以達到高速率、低損傷、高深寬比的刻蝕效果?？蓪崿F(xiàn)范圍廣泛的刻...

SWC-5000全自動兆聲晶圓清洗機：Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機提供高可重復(fù)性、高均勻性及的兆聲清洗、兆聲輔助下光刻膠剝離，以及濕法刻蝕。該...

PTR-TOF-MS質(zhì)子轉(zhuǎn)移反應(yīng)飛行時間質(zhì)譜儀是一種利用H3O+離子將質(zhì)子轉(zhuǎn)移到比水具有更高質(zhì)子親和力的所有化合物的軟電離方法?？諝庵械囊话愠煞植粫粴潆x子束電...

光學(xué)鍍膜系統(tǒng)：NANO-MASTER NOC-4000光學(xué)涂覆系統(tǒng)提供*進的技術(shù)，在一個腔體中實現(xiàn)原子級清洗和光學(xué)樣片拋光，然后把樣片傳送到第二級腔體中對同一樣...

進口ALD設(shè)備：ALD原子層沉積可以滿足膜厚控制以及高深寬比結(jié)構(gòu)的保形沉積，這方面ALD原子層沉積遠超過其它沉積技術(shù)。由于前驅(qū)體流量的隨意性不會帶來影響，所以在...

等離子去膠機：NANO-MASTER 等離子去膠和等離子灰化機是專門設(shè)計用來滿足晶圓批處理或單晶片處理，具有廣泛應(yīng)用，從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系...

硅片清洗機：Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機提供高可重復(fù)性、高均勻性及兆聲清洗。它可以在一個工藝步驟中包含了的無損兆聲清洗、化學(xué)試劑清洗、刷子清洗...

等離子體增強MOCVD：針對InGaN及AlGaN沉積工藝所研發(fā)的臺式等離子輔助金屬有機化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)（PA-MOCVD）,該系統(tǒng)具有5個鼓泡裝置（各帶獨立的...

金屬有機化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)MOVPE設(shè)備：針對InGaN及AlGaN沉積工藝所研發(fā)的臺式等離子輔助（PA-MOCVD）,該系統(tǒng)具有5個鼓泡裝置（各帶獨立的冷卻槽）...

SWC-3000兆聲晶圓（掩模版）清洗機：Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機提供高可重復(fù)性、高均勻性及兆聲清洗。它可以在一個工藝步驟中包含了的無損兆...

NANO-MASTER （那諾-馬斯特）可根據(jù)客戶需求，提供合適的Plasma Source等離子體源，可以是空心陰極等離子源，也可以是感應(yīng)耦合等離子源。等離子...

NANO-MASTER（那諾-馬斯特）Platens樣品臺，又稱為基板或加熱板，是真空鍍膜設(shè)備中常用到關(guān)鍵部件。因此樣品臺可以整合到RIE刻蝕、ICP刻蝕、PE...