德國韋氏納米系統(tǒng)(香港)有限公司
中級(jí)會(huì)員 | 第9年

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  • NSC-1000磁控濺射系統(tǒng)

    NSC-1000磁控濺射系統(tǒng):帶有水冷或者加熱(Z高可加熱到700度)功能,Z大到6“旋轉(zhuǎn)平臺(tái),Z大可支持到2個(gè)偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵,極限真空可達(dá)...

    型號(hào): 所在地:國外參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2017/3/3 10:56:12 對(duì)比
    NSC-1000磁控濺射系統(tǒng)
  • NSC-3000(M)磁控濺射系統(tǒng)

    NSC-3000(M)磁控濺射系統(tǒng):帶有水冷或者加熱(Z高可加熱到700度)功能,Z大到6“旋轉(zhuǎn)平臺(tái),Z大可支持到3個(gè)偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵,極限真...

    型號(hào): 所在地:國外參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2017/3/3 10:55:44 對(duì)比
    NSC-3000(M)磁控濺射系統(tǒng)
  • NSC-3000(A)全自動(dòng)磁控濺射系統(tǒng)

    NSC-3000(A)全自動(dòng)磁控濺射系統(tǒng):臺(tái)式自動(dòng)系統(tǒng),帶有水冷或者加熱(Z高可加熱到700度)功能,Z大到6“旋轉(zhuǎn)平臺(tái),Z大可支持到3個(gè)偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配...

    型號(hào): 所在地:國外參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2017/3/3 10:55:15 對(duì)比
    NSC-3000(A)全自動(dòng)磁控濺射系統(tǒng)
  • NSC-4000Sputter磁控濺射鍍膜機(jī)

    NSC-4000Sputter磁控濺射鍍膜機(jī):*進(jìn)的全自動(dòng)濺射系統(tǒng)帶有水冷或者加熱(Z高可加熱到700度)功能的8“旋轉(zhuǎn)樣平臺(tái),Z大可支持到3個(gè)偏軸平面磁控管。...

    型號(hào): 所在地:國外參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2017/3/3 10:54:46 對(duì)比
    NSC-4000Sputter磁控濺射鍍膜機(jī)
  • NSC-3500(M)磁控濺射系統(tǒng)

    NSC-3500(M)磁控濺射系統(tǒng):帶有水冷或者加熱(Z高可加熱到700度)功能,Z大到8“旋轉(zhuǎn)平臺(tái),Z大可支持到3個(gè)偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵,極限真...

    型號(hào): 所在地:國外參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2017/3/3 10:53:59 對(duì)比
    NSC-3500(M)磁控濺射系統(tǒng)
  • NSC-3500(A)全自動(dòng)磁控濺射系統(tǒng)

    NSC-3500(A)全自動(dòng)磁控濺射系統(tǒng):立式自動(dòng)系統(tǒng),帶有水冷或者加熱(Z高可加熱到700度)功能,Z大到6“旋轉(zhuǎn)平臺(tái),Z大可支持到4個(gè)偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配...

    型號(hào): 所在地:國外參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2017/3/3 10:53:26 對(duì)比
    NSC-3500(A)全自動(dòng)磁控濺射系統(tǒng)
  • NSC-4000(A)全自動(dòng)磁控濺射系統(tǒng)

    NSC-4000(A)全自動(dòng)磁控濺射系統(tǒng):立式自動(dòng)系統(tǒng),帶有水冷或者加熱(Z高可加熱到700度)功能,Z大到6“旋轉(zhuǎn)平臺(tái),Z大可支持到4個(gè)偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配...

    型號(hào): 所在地:國外參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2017/3/3 10:53:01 對(duì)比
    NSC-4000(A)全自動(dòng)磁控濺射系統(tǒng)
  • NSC-4000NSC-4000(M)磁控濺射系統(tǒng)

    NSC-4000NSC-4000(M)磁控濺射系統(tǒng):帶有水冷或者加熱(Z高可加熱到700度)功能,Z大到8“旋轉(zhuǎn)平臺(tái),Z大可支持到4個(gè)偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦...

    型號(hào): 所在地:國外參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2017/3/3 10:52:33 對(duì)比
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