First-Nano

刻蝕顯影清洗系統(tǒng)

薄膜測(cè)量系統(tǒng)

接觸角測(cè)量系統(tǒng) 光譜反射儀 橢偏儀 薄膜應(yīng)力測(cè)量系統(tǒng)

半自動(dòng)引線鍵合機(jī)

WB-200 半自動(dòng)引線鍵合機(jī)

Etching刻蝕系統(tǒng)

ICP低溫刻蝕 離子銑離子束刻蝕 等離子反應(yīng)離子刻蝕

Deposition沉積系統(tǒng)

AT-400原子層沉積 PLD脈沖激光沉積 PA-MOCVD等離子輔助 ALD原子層沉積系統(tǒng) PECVD等離子化學(xué)氣相沉積系 Sputter磁控濺射系統(tǒng) E-Beam電子束蒸發(fā) 熱蒸發(fā)鍍膜熱蒸發(fā)鍍膜 離子束刻蝕濺射鍍膜一體機(jī) 光學(xué)元件原子級(jí)拋光鍍膜設(shè)備

Megasonic Clean /兆聲清洗系統(tǒng)

單片晶圓兆聲清洗機(jī) 批量型兆聲清洗系統(tǒng)

Harrick等離子清洗機(jī)

基本型等離子清洗機(jī) 擴(kuò)展型等離子清洗機(jī) 高功率等離子清洗機(jī) 等離子清洗機(jī)真空泵 氣體流量混合器

測(cè)量?jī)x器

聲表面波SAW功率發(fā)生器

PIE 等離子清洗機(jī)

PDC-32G 等離子清洗機(jī) Tergeo-plus 等離子清洗機(jī) Tergeo / 旋風(fēng)等離子清洗機(jī)

Hall Effect

HMS-3300霍爾效應(yīng)測(cè)試儀 HMS-3000霍爾效應(yīng)測(cè)試儀

QCM/石英晶體微分析儀

石英晶體微分析儀

Etching/等離子蝕刻系統(tǒng)

等離子刻蝕ICP

Thin Film薄膜沉積系統(tǒng)

高密度化學(xué)氣相沉積系統(tǒng) PECVD沉積 磁控濺射系統(tǒng) 高真空熱蒸發(fā)鍍膜儀

美國(guó)杜邦Dupont

EKC270蝕刻殘留物去除劑 EKC265蝕刻殘留物去除劑

Ethcing/等離子蝕刻系統(tǒng)

等離子刻蝕ICP

Probe station/探針臺(tái)

磁體探針臺(tái) 低溫探針臺(tái)

Reflow Oven /回流焊

高真空MEMS焊封機(jī)

紫外掩膜對(duì)準(zhǔn)曝光系統(tǒng)

紫外掩膜對(duì)準(zhǔn)曝光系統(tǒng) 紫外掩膜曝光機(jī)

快速退火爐

快速退火爐

生命科學(xué)

人體運(yùn)動(dòng)能耗監(jiān)測(cè)儀

KLA/科磊

方塊電阻測(cè)量?jī)x 薄膜厚度測(cè)量?jī)x 表面缺陷檢測(cè)系統(tǒng) 納米壓痕儀 光學(xué)輪廓儀 探針式輪廓儀

KLA-Tencor

其他品牌

OAI