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應(yīng)用案例 | LED球形燈珠切片制備

時間:2024/1/16閱讀:134
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現(xiàn)代室內(nèi)外對于各種裝飾性和功能性照明的使用已經(jīng)廣泛普及,對于照明的組件要求越來越高。球形燈珠采用LED芯片做為發(fā)光體,具有較高的發(fā)光效率,熱量低、壽命長,可適應(yīng)溫度范圍寬,外觀造型靈活多變,可營造明亮、多樣的視覺氛圍。

然而球形燈珠容易損壞失效,失效原因有可能是內(nèi)部的鍵合球過大、過小、鍵合不牢、虛焊等。這些可以通過對球形燈珠進(jìn)行切片制備,結(jié)合顯微觀察分析出具體原因。

本文選取1LED球形燈珠,分享其切片制備方法。

圖片1.png

 

圖片2.png

1.原始樣品

 

1、 鑲嵌

樣品較小,為了更好地保存樣品、便于研磨和后續(xù)的自動拋光,將它鑲嵌成直徑2mm尺寸大小的圓柱塊。

鑲嵌采用澆注冷鑲嵌的方法,選用標(biāo)樂型號為EpoKwick TM FC的環(huán)氧樹脂及相應(yīng)固化劑套裝,這款樹脂流動性很好、收縮率較低,對樣品的保護(hù)效果很好。鑲嵌流程如下圖所示。

圖片3.jpg

 

2.鑲嵌流程示意圖

 

該過程還使用了型號為SamlKupTM的模杯,模杯直徑為25 mm,并配合型號為Release Agent的脫模劑使用。

 

2、 磨拋

研磨與拋光采用標(biāo)樂的手自一體磨拋機AutoMet250的手動和半自動模式。參數(shù)如下表所示。

1.機械磨拋參數(shù)

步驟

制備表面

研磨劑/粒度

底盤

轉(zhuǎn)速(rpm

動力頭

轉(zhuǎn)速(rpm

相對

轉(zhuǎn)向

載荷(N

時間(min

1

SiC耐水砂紙

P320

150

-

-

-

手動磨近目標(biāo)

2

SiC耐水砂紙

P1200

150

-

-

-

手動磨至目標(biāo)

3

VerduTex

拋光布

9um金剛石

懸浮液

130

60

同向

15

拋至金線中間

4

VerduTex

拋光布

3um金剛石

懸浮液

130

60

同向

15

5

5

ChemoMet

拋光布

0.05um Al2O3

懸浮液

110

60

異向

15

2

 

研磨拋光步驟可選擇適于硅和有色金屬的通用耗材,由于燈珠內(nèi)部LED芯片很小,尤其是鍵合球和金線,制備過程關(guān)鍵的是定位磨拋,定位過程需要借助顯微鏡觀察。

研磨階段磨至金線邊緣,且注意保持切面不偏離。µm拋光步驟仍具有一定去除材料的作用,但是又不會給材料造成過多的損傷,因此可以在µm拋光階段,將樣品從金線邊緣拋至金線中間,這樣保守的步驟,是為了能夠在9 µm拋光階段充分地去除研磨階段造成的損傷。接下來便可通過3 µm拋光步驟去除9 µm拋光步驟帶來的損傷。由于µm的金剛石粒徑很小了,不會再引入劃痕以外的明顯的損傷,最后可直接進(jìn)行0.05 µm氧化鋁拋光步驟,此間幾乎不會對樣品起到去除的作用,僅將光鏡下較明顯的劃痕抹除,得到光亮的平面。

 

 

3、 顯微觀察

最終研磨結(jié)果如下圖:

圖片4.png 

4.LED球形燈珠內(nèi)部鍵合球截面

以上光鏡圖示中,燈珠內(nèi)部結(jié)構(gòu)完整。更細(xì)微的形貌特征可進(jìn)一步采用高倍電鏡進(jìn)行觀察分析,如需分析納米級別的形貌特點,建議在此基礎(chǔ)上進(jìn)行離子束拋光后觀察。

4、 小結(jié):

1) 鑲嵌時要保證樣品垂直;

2) 定位研磨時,需要適時觀察研磨位置,避免研磨掉目標(biāo)點;

3) 以上研磨與拋光參數(shù)對當(dāng)前樣品有效,僅供參考,可根據(jù)具體樣品的材料類型進(jìn)行調(diào)整。

 

5、 所用儀器:

標(biāo)樂手自一體研磨機AutoMet250

圖片5.png

 

徠卡金相顯微鏡DVM6

DVM6-removebg-preview.png

 

 


 

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