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  • Nanoscribe QX系列雙光子無掩

  • Nanoscribe推出全新Quantu

  • Quantum X shape雙光子無掩

技術(shù)文章

  • 傳統(tǒng)制造技術(shù),無論是機(jī)械加工、化學(xué)蝕刻還是光刻技術(shù),都在一定程度上受限于精度、效率和材料適應(yīng)性。尤其是在納米尺度上,這些限制尤為明顯。然而,納米激光直寫系統(tǒng)的出現(xiàn),如同一把精密的“納米刻刀”,以其高精...
    2025/1/20
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  • 雙光子無掩膜光刻系統(tǒng)利用高能激光在非線性光學(xué)晶體中產(chǎn)生的雙光子效應(yīng),實(shí)現(xiàn)對(duì)材料表面的高精度、無掩膜的光刻。這一過程中,激光束通過光學(xué)系統(tǒng)聚焦到光敏材料上,當(dāng)激光強(qiáng)度足夠高時(shí),光敏材料中的分子會(huì)同時(shí)吸收...
    2025/1/15
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  • 雙光子無掩膜光刻系統(tǒng)這一技術(shù)的誕生,標(biāo)志著光刻技術(shù)從傳統(tǒng)向現(xiàn)代的跨越。不同于傳統(tǒng)的單光子光刻,雙光子光刻采用非線性吸收原理,即只有當(dāng)光子密度達(dá)到j(luò)i高水平時(shí),材料才會(huì)發(fā)生光化學(xué)反應(yīng)。這一特性使得雙光子...
    2025/1/10
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  • 在微納米尺度的制造領(lǐng)域,激光直寫技術(shù)以其優(yōu)勢(shì),開啟了精密制造的新篇章。這項(xiàng)技術(shù)利用激光束在材料表面或內(nèi)部直接“寫入”精細(xì)結(jié)構(gòu),無需傳統(tǒng)制造過程中的掩?;蚰>?,為科研和工業(yè)應(yīng)用提供了極大的靈活性和創(chuàng)新空...
    2024/12/21
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  • 在現(xiàn)代制造技術(shù)中,雙光子微納米3D打印機(jī)以其精度和創(chuàng)新能力,正在開啟微納結(jié)構(gòu)制造的新篇章。這項(xiàng)技術(shù)不僅突破了傳統(tǒng)制造方法的局限,而且在科研探索與工業(yè)生產(chǎn)中開辟了新的前沿領(lǐng)域。技術(shù)原理與優(yōu)勢(shì)雙光子微納米...
    2024/12/20
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  • 微納米激光直寫系統(tǒng)基于激光技術(shù),能夠在微納米尺度上實(shí)現(xiàn)高精度的材料加工和器件制備。該系統(tǒng)通過計(jì)算機(jī)控制高精度激光束的掃描和聚焦,直接在材料表面寫入微小結(jié)構(gòu)或紋理,從而實(shí)現(xiàn)高精度的加工和制備。微納米激光...
    2024/12/17
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  • 雙光子微納米3D打印機(jī)作為一種高精度的制造技術(shù),正在科研和工業(yè)領(lǐng)域中展現(xiàn)出其創(chuàng)新應(yīng)用。這項(xiàng)技術(shù)以其微米乃至納米級(jí)別的精確打印能力,突破了傳統(tǒng)制造方法的局限,為多個(gè)領(lǐng)域帶來了革命性的變化。在科研領(lǐng)域,雙...
    2024/12/11
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  • 在微納米尺度的3D打印領(lǐng)域,雙光子微納米3D打印機(jī)正以其精度和創(chuàng)新技術(shù),不斷推動(dòng)科研和工業(yè)應(yīng)用的邊界。這種技術(shù)的核心在于利用雙光子聚合(2PP)實(shí)現(xiàn)超衍射極限的納米級(jí)制造,為高精度微結(jié)構(gòu)的打印提供了可...
    2024/12/6
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  • 微納3D打印系統(tǒng)是一種高精度的3D打印技術(shù),它結(jié)合了微米級(jí)和納米級(jí)的打印精度,能夠制造出具有微小尺寸和復(fù)雜形狀的物體。微納3D打印系統(tǒng)的工作原理主要包括光固化、電子束和激光束等方法。在打印過程中,先通...
    2024/11/30
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  • 維納3D打印機(jī)的校準(zhǔn)流程是確保打印質(zhì)量和精度的重要步驟。以下是對(duì)該流程的詳細(xì)描述:一、準(zhǔn)備工作1.檢查設(shè)備狀態(tài):在進(jìn)行校準(zhǔn)之前,首先要確保維納3D打印機(jī)處于良好的工作狀態(tài)。檢查設(shè)備外觀是否有損壞,各部...
    2024/10/8
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