Nanoscribe QX系列雙光子無(wú)掩
新聞排行榜
更多產(chǎn)品展示
更多Nanoscribe榮獲歐洲ECOC 2024行業(yè)大獎(jiǎng)
Nanoscribe榮獲ECOC 2024行業(yè)大獎(jiǎng),
Quantum X align 三維光刻技術(shù)領(lǐng)航光子集成新突破
Nanoscribe 的 Quantum X 對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)剛剛在歐洲頭部光通信展 ECOC 2024 上榮獲“Most Innovative Product“:具創(chuàng)新芯片級(jí)封裝/光學(xué)子組件獎(jiǎng)"。
Most Innovative Product: Most Innovative Chip-Scale Packaging/Optical Sub Assembly Award Shortlist:
WINNER! Nanoscribe GmbH & Co. KG for Nanoscribe’s Quantum X align
同期獲獎(jiǎng)的還有華為與相干聯(lián)合獲得的“具創(chuàng)新光子器件獎(jiǎng)"等。
ECOC Exhibition 2024 是歐洲光通信會(huì)議與展覽(European Conference on Optical Communication, 簡(jiǎn)稱 ECOC)的一部分。它是全球光通信行業(yè)頭部影響力的活動(dòng)之一,專注于展示光纖通信技術(shù)的最新進(jìn)展和創(chuàng)新,包括光網(wǎng)絡(luò)、光纖技術(shù)、光子器件和相關(guān)技術(shù)的應(yīng)用。
ECOC Exhibition 吸引了來(lái)自全球的電信運(yùn)營(yíng)商、網(wǎng)絡(luò)設(shè)備制造商、組件供應(yīng)商和科研機(jī)構(gòu)。展覽會(huì)除了展示最新的產(chǎn)品和技術(shù)外,還包括技術(shù)研討會(huì)、專題討論會(huì)以及行業(yè)專家的演講,為業(yè)內(nèi)人士提供一個(gè)交流、合作與學(xué)習(xí)的平臺(tái)。
2024年的 ECOC Exhibition 將繼續(xù)聚焦光通信行業(yè)的發(fā)展,展示光通信技術(shù)領(lǐng)域的突破性成果,以及在傳輸、網(wǎng)絡(luò)、光纖產(chǎn)品和光子集成等方面的最新進(jìn)展。
在今年的展會(huì)上,Nanoscribe的Quantum X align 3D微納光刻系統(tǒng)榮獲了ECOC行業(yè)獎(jiǎng)。這一創(chuàng)新系統(tǒng)在“芯片級(jí)封裝/光學(xué)子組件"類別中獲獎(jiǎng),因其能夠以納米級(jí)精度生產(chǎn)低損耗的光耦合器,推動(dòng)了光子集成和封裝的發(fā)展。該技術(shù)通過(guò)精準(zhǔn)的3D打印微光學(xué)元件,顯著提高了光耦合的可靠性和性能,這在光子學(xué)領(lǐng)域至關(guān)重要。這證明了 Nanoscribe 3D 光刻技術(shù)的強(qiáng)大實(shí)力,未來(lái)可期!
全新升級(jí)的Nanoscribe Quantum X align系統(tǒng)配備的2GL技術(shù)將雙光子聚合(2PP)的高分辨率與體素調(diào)整技術(shù)相結(jié)合,極大減少了打印層數(shù),使得2GL成為目前基于2PP原理的最快速的微尺度3D打印方案。該技術(shù)在兼顧優(yōu)異形狀精度和打印質(zhì)量的同時(shí)實(shí)現(xiàn)高速打印,為全新應(yīng)用領(lǐng)域奠定了基礎(chǔ),可在提高打印質(zhì)量前提下以更短的打印時(shí)間內(nèi)制造更為精細(xì)的微光學(xué)系統(tǒng)。整個(gè)打印過(guò)程在保持高速掃描的同時(shí)實(shí)現(xiàn)實(shí)時(shí)動(dòng)態(tài)調(diào)整激光功率。這使得聚合體素得到精確尺寸調(diào)整,以匹配任何3D形狀的輪廓。在無(wú)需切片步驟,不產(chǎn)生形狀失真的要求下,最終您將獲得具有無(wú)瑕疵光學(xué)級(jí)表面的任意3D打印設(shè)計(jì)的100%真實(shí)形狀。?Nanoscribe全新雙光子灰度光刻技術(shù)標(biāo)志著基于2PP原理的3D微納加工新時(shí)代。除了微光學(xué)和光子學(xué)之外,這項(xiàng)技術(shù)還可適用于許多潛在應(yīng)用,而高速打印、光學(xué)質(zhì)量表面、精細(xì)的亞微米細(xì)節(jié)或紋理表面則成為了關(guān)鍵因素。Nanoscribe通過(guò)研發(fā)3D printing by 2GL,將體素調(diào)整技術(shù)引入到三維層面。
更多有關(guān)3D雙光子無(wú)掩模光刻技術(shù)和產(chǎn)品咨詢
歡迎聯(lián)系Nanoscribe中國(guó)分公司 - 納糯三維科技(上海)有限公司
德國(guó)Nanoscribe 超高精度雙光子微納3D無(wú)掩模光刻系統(tǒng):
Photonic Professional GT2 雙光子微納3D無(wú)掩模光刻系統(tǒng)
Quantum X Align 雙光子納米自動(dòng)對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)
Quantum X shape 雙光子高性能3D微納加工系統(tǒng)
Quantuam X bio 雙光子高精度3D生物打印系統(tǒng)