VTC-16-1HD單靶磁控濺射儀 參考價：面議
VTC-16-1HD單靶磁控濺射儀是我公司自主新研制開發(fā)的一款高真空鍍膜設備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、...
VTC-600GD高真空磁控濺射儀 參考價：面議
VTC-600GD高真空磁控濺射儀是新自主研制開發(fā)的鍍膜設備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物...
VTC-1RF-SPC磁控濺射蒸發(fā)鍍膜儀 參考價：面議
VTC-1RF-SPC磁控濺射蒸發(fā)鍍膜儀是一套可實現(xiàn)射頻磁控濺射和蒸發(fā)鍍膜功能的系統(tǒng)，包含射頻電源、溫控型蒸發(fā)鍍膜模塊、真空系統(tǒng)，水冷設備，磁控濺射靶頭，不銹鋼...
VTC-600-2HD-1000雙靶磁控濺射儀 參考價：面議
VTC-600-2HD-1000雙靶磁控濺射儀與同類設備相比，且具有體積小便于操作的優(yōu)點，且可使用的材料范圍廣，是一款實驗室制備各類材料薄膜的理想設備。
VTC-600-1HD單靶磁控濺射儀 參考價：面議
VTC-600-1HD單靶磁控濺射儀與同類設備相比，且具有體積小便于操作的優(yōu)點，且可使用的材料范圍廣，是一款實驗室制備各類材料薄膜的理想設備。
VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀 參考價：面議
VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀是我公司自主新研制開發(fā)的一款高真空鍍膜設備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜...
VTC-600G高真空磁控濺射儀 參考價：面議
VTC-600G高真空磁控濺射儀是新自主研制開發(fā)的鍍膜設備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物薄...
VTC-600-3HD-1000三靶磁控濺射儀 參考價：面議
VTC-600-3HD-1000三靶磁控濺射儀是我公司自主新研制開發(fā)的一款高真空鍍膜設備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜...
GSL-1100X-SPC-16M磁控濺射鍍膜儀 參考價：面議
GSL-1100X-SPC-16M磁控濺射鍍膜儀是依據(jù)二極（DC）直流濺射原理設計而成的Z簡單、可靠、經(jīng)濟的鍍膜設備，適用于實驗室各種復合膜樣品的制備，以及非導...
3靶等離子濺射儀 參考價：面議
VTC-16-3HD 3靶等離子濺射儀是一款緊湊型的等離子薄膜濺射儀（直流普通型），控制面板采用觸摸屏模式，基片極限尺寸為2″，放置樣品的直徑為Ø50...
GSL-1100X-SPC-16單靶等離子濺射儀 參考價：面議
GSL-1100X-SPC-16單靶等離子濺射儀是一款緊湊型的等離子濺射儀，可進行金、鉑、銦、銀等多種金屬的濺射鍍膜，樣品直徑可達50mm，鍍膜厚度可達300?...
GSL-1100X-SPC-16-3等離子三靶濺射儀 參考價：面議
GSL-1100X-SPC-16-3等離子三靶濺射儀是依據(jù)二極（DC）直流濺射原理設計而成的Z簡單、可靠、經(jīng)濟的鍍膜設備。本機特別之處是在一個真空室內安裝了三個...
濺射蒸發(fā)一體機 參考價：面議
VTC-180EVS濺射蒸發(fā)一體機主要應用于大專院校、科研機構、企業(yè)實驗室及微小產(chǎn)品進行真空鍍膜等真空處理的工藝研究、樣板試制、操作培訓和生產(chǎn)。
VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀 參考價：面議
VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀是新自主研制開發(fā)的鍍膜設備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化...
VTC-16-SM小型高能直流磁控濺射儀 參考價：面議
產(chǎn)品簡介：VTC-16-SM小型高能直流磁控濺射儀是一款桌面式等離子磁控濺射鍍膜儀，包含一個2英寸水冷靶頭（另有1英寸靶頭可選）和可旋轉樣品臺。水冷靶頭使鍍膜后...
磁控濺射卷繞鍍膜機 參考價：面議
產(chǎn)品簡介：磁控濺射卷繞鍍膜機是磁控濺射多用途卷繞鍍膜設備，適用于在 PET 和無紡布上鍍制金屬膜（銅，鋁等）功能性薄膜，設備采用*的磁控濺射鍍膜技術，配備直流、...
VGB-600-3HD薄膜電池制備系統(tǒng) 參考價：面議
VGB-600-3HD薄膜電池制備系統(tǒng)可在手套箱內進行實驗操作，用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物...
小型粉末PVD包覆系統(tǒng) 參考價：面議
小型粉末PVD包覆系統(tǒng)VTC-16PW是一款小型粉末包覆系統(tǒng)，主要有2英寸磁控濺射頭和振動樣品臺組成。粉末在振動樣品臺上振動翻滾，通過濺射在粉末表面進行包覆形成...
不銹鋼彎頭 參考價：面議
不銹鋼彎頭共2個接口，兩接口為90°垂直且共面分布，主要用于連接真空腔室與相關配件。
GSL-1100X-SPC-12等離子薄膜濺射儀 參考價：面議
GSL-1100X-SPC-12等離子薄膜濺射儀專門為在基底上鍍金屬膜（如金、鉑、銦、銀等）而設計，Z大放置樣品尺寸直徑為40mm，膜厚可達300Å，...
四通閥 參考價：面議
四通閥包含3個接口、1個閥門，呈垂直且共面分布，其中2個KF40接口、1個KF25接口（可根據(jù)用戶要求改制），主要用于連接真空腔室與分子泵及真空規(guī)管，如磁控濺射...
密封裝置 參考價：面議
密封裝置主要用于在真空腔室上垂直安裝圓柱型元器件，安裝孔徑為19.2mm。
加熱臺 參考價：面議
加熱臺主要用于VTC-600-2HD雙靶、VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀及GSL-1800X-ZF4蒸發(fā)鍍膜儀的樣品臺的加熱。
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