深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司

  • 無掩模光刻機(jī)

    μMLA無掩模光刻機(jī)是優(yōu)良的無模板技術(shù)，建立在著名的 μPG 平臺之上，該平臺是臺式無模板系統(tǒng)。
    型號： μMLA 所在地：德國 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2024/9/5 14:34:47 對比

  • 掃描電鏡等離子清洗機(jī)

    CIF掃描電鏡等離子清洗機(jī)采用遠(yuǎn)程等離子清洗源設(shè)計(jì)，清洗快速、高效、低轟擊損傷，主要用于SEM或FIB等電鏡腔體內(nèi)碳?xì)浠衔锏那逑础?
    型號： CIF-SEM 所在地：深圳市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2024/9/5 14:34:10 對比

  • 高真空有機(jī)及熱阻蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)

    產(chǎn)品概述：高真空有機(jī)及熱阻蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)主要由有機(jī)/金屬源蒸發(fā)沉積室、真空排氣系統(tǒng)；真空測量系統(tǒng)；蒸發(fā)源；樣品加熱控溫；電控系統(tǒng)；配氣系統(tǒng)等部分組成。設(shè)備用途...
    型號： DZ350 所在地：沈陽市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2024/9/5 14:33:48 對比

  • 原子層沉積ALD

    Beneq TFS 200 是有史以來最靈活的原子層沉積研究平臺，專為學(xué)術(shù)研究和企業(yè)研發(fā)而設(shè)計(jì)。Beneq TFS 200 經(jīng)過專門設(shè)計(jì)，可最大限度地減少多用戶...
    型號： Beneq TFS... 所在地：芬蘭 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2024/9/5 14:29:26 對比

  • 芯片刻蝕機(jī)

    ELEDE® 380系列 芯片刻蝕機(jī)，優(yōu)良的等離子體發(fā)生裝置，適用多種材料刻蝕，工藝窗口寬。
    型號： ELEDE... 所在地：北京市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2024/9/5 14:26:03 對比

  • MBE分子束外延系統(tǒng)

    GENxplor® R&D MBE系統(tǒng)獲得了化合物半導(dǎo)體制造的CSindustry獎(jiǎng)，采用Veeco成熟的3英寸生長室設(shè)計(jì)，并具工藝靈活性，非常適合U...
    型號： GENxplor ... 所在地：國外 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2024/9/5 14:25:22 對比

  • 原子層沉積ALD

    用于電池、太陽能和柔性電子產(chǎn)品的功能性原子層沉積涂層。 Genesis ALD 是涂布任何卷筒格式基材以及多種功能應(yīng)用的理想選擇。
    型號： Genesis A... 所在地：芬蘭 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2024/9/5 14:24:21 對比

  • 濺射系統(tǒng)

    iTops PVD AlN 濺射系統(tǒng)，采用托盤形式，可兼容 2/4/6 英寸,工藝溫度在 0~700℃之間。
    型號： iTops PVD... 所在地：北京市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2024/9/5 14:22:41 對比

  • 濺射系統(tǒng)

    iTops PVD ITO 濺射系統(tǒng)，加熱能力、精確的溫度控制、優(yōu)異的真空能力.高晶體質(zhì)量的氮化鋁薄膜及優(yōu)異的薄膜厚度均勻性。
    型號： iTops PVD... 所在地：北京市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2024/9/5 14:18:05 對比

  • 分子束外延MBE

    GEN10™ MBE 系統(tǒng)是成熟平臺中經(jīng)濟(jì)、最靈活的簇狀工具系統(tǒng)，允許多達(dá)三個(gè)可配置的、特定于材料的生長模塊。這使得系統(tǒng)利用率高，允許多個(gè)研究人員同...
    型號： GEN10 所在地：國外 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2024/9/5 14:14:41 對比

  • 超高真空激光分子束外延薄膜沉積系統(tǒng)

    產(chǎn)品概述：超高真空激光分子束外延薄膜沉積系統(tǒng)由真空腔室（外延室、進(jìn)樣室）、樣品傳遞機(jī)構(gòu)、樣品架、立式旋轉(zhuǎn)靶臺、基片加熱臺、抽氣系統(tǒng)、真空測量、工作氣路、電控系統(tǒng)...
    型號： LMBE450 所在地：沈陽市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2024/9/5 14:13:08 對比

  • 高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)

    產(chǎn)品概述：高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)可用于制備光學(xué)薄膜、電學(xué)薄膜、磁性薄膜、硬質(zhì)保護(hù)薄膜和裝飾薄膜等，工藝性能穩(wěn)定、模塊化結(jié)構(gòu)，采用行業(yè)的軟件控制系統(tǒng)。設(shè)備用途...
    型號： PVD400 所在地：沈陽市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2024/9/5 14:08:37 對比

  • 勻膠機(jī)

    H6-8型勻膠機(jī)機(jī)結(jié)構(gòu)緊湊，具有優(yōu)良的功能，設(shè)計(jì)為最容易安裝在手套箱中的旋涂機(jī)。這款 650 系列 HL 涂布機(jī)系統(tǒng) 將 可容納最大 200mm 晶圓和 7 英...
    型號： H6-8 所在地：美國 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2024/9/5 14:00:18 對比

  • 高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)

    高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)可用于制備光學(xué)薄膜、電學(xué)薄膜、磁性薄膜、硬質(zhì)保護(hù)薄膜和裝飾薄膜等，工藝性能穩(wěn)定、模塊化結(jié)構(gòu)，采用行業(yè)的軟件控制系統(tǒng)。
    型號： PVD500 所在地：沈陽市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2024/9/5 13:55:32 對比

  • 金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積MOCVD

    Veeco 的 EPIK® 868 是 LED 業(yè)界最高性能的金屬有機(jī)物化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)MOCVD，可實(shí)現(xiàn)出色的均勻性和可重復(fù)性，以及低缺陷率。Vee...
    型號： TurboDisc... 所在地：深圳市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2024/9/5 13:48:50 對比

  • 晶圓清洗機(jī)

    高效的緊湊型清洗裝置，為您的流程提供支持977晶圓清洗機(jī)系統(tǒng)專為切割后工件清洗和干燥而設(shè)計(jì)，配有旋轉(zhuǎn)卡盤臺、旋轉(zhuǎn)清洗/干燥臂。臂可配置霧化清潔噴嘴或高壓噴嘴，滿...
    型號： 977 所在地：國外 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2024/9/5 13:37:50 對比

  • 分子束外延MBE

    屢獲殊榮的新型 GENxcel™ 系統(tǒng)是在 GENxplor 的基礎(chǔ)上進(jìn)行的擴(kuò)展，GENxplor™ 是自 2013 年 8 月推出以來...
    型號： GENxcel R... 所在地：國外 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2024/9/5 11:33:27 對比

  • 等離子清洗和加熱機(jī)

    由德國UNITEMP研發(fā)的等離子清洗和加熱機(jī)，最大零件裝載面積：305 mm x 305 mm（最大零件高度為 25 mm）。
    型號： PTP-300 所在地：德國 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2024/9/5 11:33:05 對比

  • 勻膠機(jī)

    laurell的H6-15系列勻膠機(jī)結(jié)構(gòu)緊湊，具有優(yōu)良的功能，設(shè)計(jì)為最容易安裝在手套箱中的旋涂機(jī)。這款650系列HL涂布機(jī)系統(tǒng) 將 可容納高達(dá)300mm 的晶圓...
    型號： H6-15 所在地：美國 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2024/9/5 11:31:33 對比

  • 勻膠機(jī)

    laurell的H6-23型的勻膠機(jī)結(jié)構(gòu)緊湊，具有優(yōu)良的功能，設(shè)計(jì)為最容易安裝在手套箱中的旋涂機(jī)。這款 650 系列 HL 涂布機(jī)系統(tǒng) 將 可容納最大 150m...
    型號： H6-23 所在地：美國 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2024/9/5 11:30:46 對比
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