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深硅刻蝕系統(tǒng)DEEP SI ETCH

參  考  價(jià):面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

產(chǎn)品型號(hào)customized-14

品牌OXFORD/英國(guó)牛津

廠商性質(zhì)經(jīng)銷商

所在地深圳市

更新時(shí)間:2024-09-06 15:05:06瀏覽次數(shù):1339次

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提供深硅蝕刻(DSiE)領(lǐng)域的MEMS,封裝和納米技術(shù)的廣泛應(yīng)用,從光滑側(cè)壁工藝到高刻蝕速率腔刻蝕、高深寬比工藝和錐形通孔刻蝕,不需要更換腔室硬件就可以實(shí)現(xiàn)。

1. 產(chǎn)品概述

提供深硅蝕刻(DSiE)領(lǐng)域的MEMS,封裝和納米技術(shù)的廣泛應(yīng)用,從光滑側(cè)壁工藝到高刻蝕速率腔刻蝕、高深寬比工藝和錐形通孔刻蝕,不需要更換腔室硬件就可以實(shí)現(xiàn)。百科:深硅刻蝕系統(tǒng)的原理既包括利用等離子體中的活性粒子進(jìn)行物理和化學(xué)作用的等離子體刻蝕技術(shù),也包括通過(guò)化學(xué)反應(yīng)去除材料的濕法刻蝕技術(shù)。


2. 設(shè)備特點(diǎn)

光滑側(cè)壁工藝;

高刻蝕速率腔刻蝕;

高深寬比工藝;

錐形通孔刻蝕;

機(jī)械或靜電壓盤,加熱內(nèi)襯;

延長(zhǎng)了兩次清洗間的平均時(shí)間間隔(MTBC)環(huán)形激光陀螺反射鏡;

X射線光學(xué)系統(tǒng);

紅外(IR)傳感器;

II-VI族材料,通信濾波器。

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